Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2018202077) INTERFERENCE MEASUREMENT METHOD AND DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/202077 International Application No.: PCT/CN2018/085452
Publication Date: 08.11.2018 International Filing Date: 03.05.2018
IPC:
H04W 24/00 (2009.01)
H ELECTRICITY
04
ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
W
WIRELESS COMMUNICATION NETWORKS
24
Supervisory, monitoring or testing arrangements
Applicants:
华为技术有限公司 HUAWEI TECHNOLOGIES CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 龙岗区坂田华为总部办公楼 Huawei Administration Building Bantian, Longgang Shenzhen, Guangdong 518129, CN
Inventors:
吴明 WU, Ming; CN
张弛 ZHANG, Chi; CN
马小骏 MA, Xiaojun; CN
秦熠 QIN, Yi; CN
Agent:
北京龙双利达知识产权代理有限公司 LONGSUN LEAD IP LTD.; 中国北京市 海淀区北清路68号院3号楼101 Rm. 101, Building 3 No. 68 Beiqing Road, Haidian District Beijing 100094, CN
Priority Data:
201710314215.405.05.2017CN
201710344856.416.05.2017CN
Title (EN) INTERFERENCE MEASUREMENT METHOD AND DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE MESURE D'INTERFÉRENCE
(ZH) 干扰测量方法和设备
Abstract:
(EN) Provided in the present application are an interference measurement method and device, which enable interference measurement between terminal devices. The method comprises: a terminal device receives interference measurement resource allocation information from a network side device; and the terminal device carries out a first interference measurement by using a first measurement resource, wherein the first measurement resource is an actual subset of the interference measurement resource, and the number M of resource units located in the same symbol within the first measurement resource is greater than or equal to 2, and the interval, in the frequency domain, between any two adjacent resource units among the M resource units located in the same symbol within the first measurement resource is greater than one subcarrier.
(FR) La présente invention concerne un procédé et un dispositif de mesure d'interférence, qui permettent une mesure d'interférence entre des dispositifs terminaux. Le procédé comprend les étapes suivantes : un dispositif terminal reçoit des informations d'attribution de ressource de mesure d'interférence en provenance d'un dispositif côté réseau ; et le dispositif terminal effectue une première mesure d'interférence à l'aide d'une première ressource de mesure, la première ressource de mesure étant un sous-ensemble réel de la ressource de mesure d'interférence, et le nombre M d'unités de ressource situées dans le même symbole dans la première ressource de mesure est supérieur ou égal à 2, et l'intervalle, dans le domaine fréquentiel, entre deux unités de ressource adjacentes quelconques parmi les M unités de ressource situées dans le même symbole dans la première ressource de mesure est supérieure à une sous-porteuse.
(ZH) 本申请提供了一种干扰测量方法和设备,使能终端设备之间进行干扰测量。该方法包括:终端设备接收来自网络侧设备的干扰测量资源配置信息;所述终端设备使用第一测量资源进行第一干扰测量,其中,所述第一测量资源为所述干扰测量资源的真子集,所述第一测量资源中位于同一符号内的资源单元的个数M≥2,所述第一测量资源中位于同一符号内的M个资源单元中相邻的两个资源单元之间,在频域上的间隔大于1个子载波。
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)