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1. (WO2018201717) FURNACE-MOUTH AIR-INTAKE STRUCTURE OF PECVD DEVICE
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Pub. No.: WO/2018/201717 International Application No.: PCT/CN2017/114883
Publication Date: 08.11.2018 International Filing Date: 07.12.2017
IPC:
C23C 16/455 (2006.01) ,H01L 21/00 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
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COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition (CVD) processes
44
characterised by the method of coating
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characterised by the method used for introducing gases into the reaction chamber or for modifying gas flows in the reaction chamber
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
Applicants:
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 S.C NEW ENERGY TECHNOLOGY CORPORATION [CN/CN]; 中国广东省深圳市 龙岗区横岗街道横坪公路89号数字硅谷(涌鑫工业园)D栋 Buildding D ( Yongxin Industrial Park) Digital Silicon Valley 89# Hengping Road, Henggang Street, Longgang District Shenzhen, Guangdong 518000, CN
Inventors:
杨宝立 YANG, Baoli; CN
张勇 ZHANG, Yong; CN
Agent:
深圳市康弘知识产权代理有限公司 SHENZHEN KANGHONG INTELLECTUAL PROPERTY AGENT CO., LTD; 中国广东省深圳市 福田区彩田路5015号中银花园办公楼A栋6C1 6C1,Building A,ZhongYin Building No.5015, CaiTian Rd., Futian District Shenzhen, Guangdong 518026, CN
Priority Data:
201720481224.803.05.2017CN
Title (EN) FURNACE-MOUTH AIR-INTAKE STRUCTURE OF PECVD DEVICE
(FR) STRUCTURE D'ADMISSION D'AIR POUR BOUCHE DE FOUR D'UN DISPOSITIF DE PECVD
(ZH) 一种PECVD设备炉口进气结构
Abstract:
(EN) Disclosed in the present utility model is a furnace-mouth air-intake structure of a PECVD device. The furnace-mouth air-intake structure comprises a flange; the outer side wall of the flange is provided thereon with a plurality of outer air intake pipes; the inner side wall of the flange is mounted thereon with a plurality of inner air intake pipes, from top to bottom; each of the inner air intake pipe extends in a circumferential direction of the inner side wall of the flange; one end of each inner air intake pipe is an intake end, and the other end thereof is a closed end; the air intake end of each inner intake pipe is in communication with the air outlet end of one outer air intake pipe; and a plurality of air outlet holes facing the center of the flange are uniformly provided on the pipe wall of each inner air intake pipe and distributed in the circumferential direction of the inner air intake pipe. The present utility model allows multiple gases to enter a reaction chamber in a uniformly mixed manner after being injected, and the desired process is easily achieved; and when it is necessary to clean or replace the furnace mouth air intake structure of the PECVD equipment, only the inner air intake pipes need to be removed; moreover, costs and resources are saved compared to the prior art where the entire flange needs to be replaced.
(FR) La présente invention concerne une structure d'admission d'air pour bouche de four d'un dispositif de PECVD. La structure d'admission d'air pour bouche de four comprend une bride ; la paroi latérale extérieure de la bride est pourvue d'une pluralité de tuyaux d'admission d'air extérieurs ; la paroi latérale intérieure de la bride comporte, montée sur celle-ci, une pluralité de tuyaux d'admission d'air intérieurs, du haut vers le bas ; chacun des tuyaux d'admission d'air intérieurs s'étend dans une direction circonférentielle de la paroi latérale intérieure de la bride ; une extrémité de chaque tuyau d'admission d'air intérieur est une extrémité d'admission, son autre extrémité étant une extrémité fermée ; l'extrémité d'admission d'air de chaque tuyau d'admission intérieur est en communication avec l'extrémité de sortie d'air d'un tuyau d'admission d'air extérieur ; et une pluralité de trous de sortie d'air faisant face au centre de la bride sont disposés uniformément sur la paroi de tuyau de chaque tuyau d'admission d'air intérieur et répartis dans la direction circonférentielle du tuyau d'admission d'air intérieur. La présente invention permet à de multiples gaz d'entrer dans une chambre de réaction en étant uniformément mélangés après injection, ce qui permet de mettre en œuvre facilement le procédé souhaité ; et lorsqu'il est nécessaire de nettoyer ou de remplacer la structure d'admission d'air pour bouche de four de l'équipement de PECVD, seuls les tuyaux d'admission d'air intérieurs doivent être retirés ; de plus, les coûts et les ressources sont économisés par comparaison avec les techniques actuelles, dans lesquelles l'ensemble de la bride doit être remplacé.
(ZH) 本实用新型公开了一种PECVD设备炉口进气结构,包括法兰,所述法兰的外侧壁上设置有多个外进气管,所述法兰的内侧壁上由上至下安装有多个内进气管,且每个内进气管分别沿着所述法兰的内侧壁的周向布置,每个内进气管的一端为进气端,另一端为封闭端,每个内进气管的进气端与一个外进气管的出气端连通,所述每个内进气管的管壁上沿该每个内进气管的周向均匀设有多个朝向所述法兰的中心的出气孔。本实用新型使得多种气体在射出后均匀混合的进入反应腔室,容易达到理想的工艺;而且在需要清洗或者更换该 PECVD 设备炉口进气结构时,只需要拆下内进气管即可,而且相比现有技术需要更换整个法兰,节约了成本和资源。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)