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1. (WO2018200409) APPLYING POWER TO ELECTRODES OF PLASMA REACTOR
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Pub. No.: WO/2018/200409 International Application No.: PCT/US2018/028936
Publication Date: 01.11.2018 International Filing Date: 23.04.2018
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32
Gas-filled discharge tubes
Applicants:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventors:
COLLINS, Kenneth S.; US
RAMASWAMY, Kartik; US
GUO, Yue; US
RAUF, Shahid; US
BERA, Kallol; US
CARDUCCI, James D.; US
RICE, Michael R.; US
Agent:
GOREN, David J.; US
Priority Data:
62/489,34424.04.2017US
62/523,75922.06.2017US
62/523,76122.06.2017US
62/523,76322.06.2017US
Title (EN) APPLYING POWER TO ELECTRODES OF PLASMA REACTOR
(FR) APPLICATION D'ÉNERGIE À DES ÉLECTRODES D'UN RÉACTEUR À PLASMA
Abstract:
(EN) A plasma reactor includes a chamber body having an interior space that provides a plasma chamber, a gas distributor to deliver a processing gas to the plasma chamber, a pump coupled to the plasma chamber to evacuate the chamber, a workpiece support to hold a workpiece, and an intra-chamber electrode assembly that includes a plurality of filaments extending laterally through the plasma chamber between a ceiling of the plasma chamber and the workpiece support. Each filament including a conductor surrounded by a cylindrical insulating shell. The plurality of filaments includes a first multiplicity of filaments and a second multiplicity of filaments arranged in an alternating pattern with the first multiplicity of filaments. An RF power source is configured to apply a first RF input signal to the first multiplicity of filaments.
(FR) La présente invention concerne un réacteur à plasma comprenant un corps de chambre ayant un espace intérieur qui fournit une chambre à plasma, un distributeur de gaz pour distribuer un gaz de traitement dans la chambre à plasma, une pompe couplée à la chambre à plasma pour évacuer la chambre, un support de pièce à travailler pour maintenir une pièce à travailler, et un ensemble électrode intra-chambre qui comprend une pluralité de filaments s'étendant latéralement à travers la chambre à plasma entre un plafond de la chambre à plasma et le support de pièce à travailler. Chaque filament comprend un conducteur entouré d'une coque isolante cylindrique. La pluralité de filaments comprend une première multiplicité de filaments et une seconde multiplicité de filaments agencés selon un motif alterné avec la première multiplicité de filaments. Une source d'énergie radiofréquence (RF) est conçue pour appliquer un premier signal d'entrée RF à la première multiplicité de filaments.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)