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1. (WO2018198302) STRETCHING DEVICE, DEVICE FOR VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING, AND METHOD FOR VAPOR DEPOSITION MANUFACTURING
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Pub. No.: WO/2018/198302 International Application No.: PCT/JP2017/016886
Publication Date: 01.11.2018 International Filing Date: 28.04.2017
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
23
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14
Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22
characterised by the process of coating
24
Vacuum evaporation
C CHEMISTRY; METALLURGY
23
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14
Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
04
Coating on selected surface areas, e.g. using masks
Applicants:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventors:
中島 信作 NAKAJIMA, Shinsaku; --
Agent:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Priority Data:
Title (EN) STRETCHING DEVICE, DEVICE FOR VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING, AND METHOD FOR VAPOR DEPOSITION MANUFACTURING
(FR) DISPOSITIF D'ÉTIRAGE, DISPOSITIF DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 架張装置、蒸着マスク製造装置および蒸着マスク製造方法
Abstract:
(EN) Provided is a stretching device (1) that imparts tension to a vapor deposition mask (5), wherein the stretching device (1) is provided with: tension drive devices (31 – 34) for stretching tension end parts (51 – 54) provided in at least two locations apiece on both ends of a vapor deposition mask (1) so as to impart the tensile strength to the vapor deposition mask (5); rotating mechanisms (21 – 24) for rotating the tension end parts (51 – 54) along end edge parts in the direction the vapor deposition mask (5) is stretched around drive shafts (21a – 24a) extending in a direction perpendicular to the surface of the vapor deposition mask (5); displacement sensors 8, 9 for detecting displacement of the end edge parts on which the tensile strength operates in the vapor deposition mask (5); and a control device (1) for controlling the rotating mechanisms (21 – 24) so as to rotate the rotating mechanisms (21 – 24) at the angle of rotation and a direction of rotation in correspondence with the displacement detected by the displacement sensors (8, 9).
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'étirage (1) qui confère une tension à un masque de dépôt en phase vapeur (5), le dispositif d'étirage (1) étant pourvu de : dispositifs d'entraînement de tension (31-34) pour étirer des parties d'extrémité de tension (51-54) disposés à au moins deux emplacements sur chacune des deux extrémités d'un masque de dépôt en phase vapeur (1) de façon à conférer une résistance à la traction au masque de dépôt en phase vapeur (5); des mécanismes rotatifs (21-24) pour faire tourner les parties d'extrémité de tension (51-54) le long de parties de bord d'extrémité dans la direction dans laquelle le masque de dépôt en phase vapeur (5) est étiré autour d'arbres d'entraînement (21a-24a) s'étendant dans une direction perpendiculaire à la surface du masque de dépôt en phase vapeur (5); des capteurs de déplacement 8, 9 pour détecter un déplacement des parties de bord d'extrémité sur lesquels la résistance à la traction fonctionne dans le masque de dépôt en phase vapeur (5); et un dispositif de commande (1) pour commander les mécanismes de rotation (21-24) de façon à faire tourner les mécanismes de rotation (21-24) à l'angle de rotation et dans une direction de rotation en correspondance avec le déplacement détecté par les capteurs de déplacement (8, 9).
(JA) 架張装置(1)は、蒸着マスク(5)に張力を与える。架張装置(1)は、蒸着マスク(5)に張力を与えるように、蒸着マスク(1)の両端に少なくとも2箇所ずつ設けられた引張端部(51~54)を引っ張る引張駆動装置(31~34)と、蒸着マスク(5)が引っ張られる方向の端縁部に沿った引張端部(51~54)を、蒸着マスク(5)の面に垂直な方向に伸びる駆動軸(21a~24a)の周りに回転させる回転機構(21~24)と、蒸着マスク(5)において張力が作用する端縁部の変位を検出する変位センサ8,9と、変位センサ(8,9)によって検出された変位に応じた回転角度および回転方向で回転機構(21~24)を回転させるように回転機構(21~24)を制御する制御装置(1)と、を備えている。
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)