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1. (WO2018177747) METHOD FOR DETECTING PARTICLES ON THE SURFACE OF AN OBJECT, WAFER, AND MASK BLANK
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Pub. No.: WO/2018/177747 International Application No.: PCT/EP2018/056352
Publication Date: 04.10.2018 International Filing Date: 14.03.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
[IPC code unknown for G03F 7/20]
Applicants:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventors:
BEYER, Oliver; DE
GERHARD, Michael; DE
Agent:
KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Gropiusplatz 10 70563 Stuttgart, DE
Priority Data:
10 2017 205 212.028.03.2017DE
Title (EN) METHOD FOR DETECTING PARTICLES ON THE SURFACE OF AN OBJECT, WAFER, AND MASK BLANK
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE PARTICULES À LA SURFACE D’UN OBJET, D’UNE PLAQUE ET D’UNE ÉBAUCHE DE MASQUE
(DE) VERFAHREN ZUM DETEKTIEREN VON PARTIKELN AN DER OBERFLÄCHE EINES OBJEKTS, WAFER UND MASKENBLANK
Abstract:
(EN) The invention relates to a method for detecting deposited particles on a surface (11) of an object (3, 14), the method comprising: irradiating a partial region of the surface (11) of the object (3, 14) with measurement radiation; detecting measurement radiation scattered on the irradiated partial region, and detecting particles in the partial region of the surface of the objects (3, 14) based on the detected measurement radiation. In the steps of irradiation and detecting, the surface (11) of the object (3, 14) has an antireflection coating (13) and/or a surface structure (15) for reducing the reflectivity of the surface (11) for the measurement radiation (9), wherein the particle detection limit is lowered due to the antireflection coating (13) and/or the surface structure (15). The invention further relates to a wafer (3) and to a mask blank for carrying out the method.
(FR) L’invention concerne un procédé de détection de particules déposées sur une surface (11) d’un objet (3, 14), comprenant les étapes suivantes : irradier une partie de la surface (11) de l’objet (3, 14) avec un rayonnement de mesure, détecter le rayonnement de mesure diffusé par la partie irradiée, et détecter des particules dans la partie de la surface de l’objet (3, 14) sur la base du rayonnement de mesure détecté. La surface (11) de l’objet (3, 14) est pourvue, dans les étapes d’irradiation et de détection, d’un revêtement antireflet (13) et/ou d’une structure de surface (15) pour réduire la réflectivité de la surface (11) vis-à-vis du rayonnement de mesure (9). La limite de détection de particules est abaissée par le revêtement antireflet (13) et/ou la structure de surface (15). L’invention concerne également une plaquette (3) et une ébauche de masque destinées la mise en œuvre du procédé.
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Detektieren von abgelagerten Partikeln an einer Oberfläche (11) eines Objekts (3, 14), umfassend: Bestrahlen eines Teilbereichs der Oberfläche (11) des Objekts (3, 14) mit Messstrahlung, Detektieren von an dem bestrahlten Teilbereich gestreuter Messstrahlung, sowie Detektieren von Partikeln in dem Teilbereich der Oberfläche des Objekts (3, 14) anhand der detektierten Messstrahlung. Die Oberfläche (11) des Objekts (3, 14) ist bei den Schritten des Bestrahlens und des Detektierens mit einer Antireflex-Beschichtung (13) und/oder mit einer Oberflächenstruktur (15) zur Reduzierung der Reflektivität der Oberfläche (11) für die Messstrahlung (9) versehen, wobei durch die Antireflex-Beschichtung (13) und/oder die Oberflächenstruktur (15) die Partikelnachweisgrenze gesenkt wird. Die Erfindung betrifft auch einen Wafer (3) und einen Maskenblank zur Durchführung des Verfahrens.
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Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)