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1. (WO2018163995) PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PROCESSING SUBSTRATE, OPTICAL COMPONENT, AND QUARTZ MOLD REPLICA, IMPRINT PRETREATMENT COATING MATERIAL, AND SET OF SAID COATING MATERIAL AND IMPRINT RESIST
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Pub. No.: WO/2018/163995 International Application No.: PCT/JP2018/008040
Publication Date: 13.09.2018 International Filing Date: 02.03.2018
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02
Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
027
Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing, not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34165
B PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29
WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
C
SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL; AFTER- TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
59
Surface shaping, e.g. embossing; Apparatus therefor
02
by mechanical means, e.g. pressing
Applicants:
キヤノン株式会社 CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501, JP
Inventors:
千葉 啓子 CHIBA Keiko; JP
石田 晋吾 ISHIDA Shingo; JP
安藤 敏明 ANDO Toshiaki; JP
伊藤 俊樹 ITO Toshiki; JP
スタコウィアック ブライアン ティモシー STACHOWIAK Brian Timothy; JP
リウ ウェイジュン LIU Weijun; JP
Agent:
岡部 讓 OKABE Yuzuru; JP
齋藤 正巳 SAITO Masami; JP
Priority Data:
62/468,47208.03.2017US
Title (EN) PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PROCESSING SUBSTRATE, OPTICAL COMPONENT, AND QUARTZ MOLD REPLICA, IMPRINT PRETREATMENT COATING MATERIAL, AND SET OF SAID COATING MATERIAL AND IMPRINT RESIST
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE TRAITEMENT, COMPOSANT OPTIQUE ET RÉPLIQUE DE MOULE EN QUARTZ, MATÉRIAU DE REVÊTEMENT DE PRÉTRAITEMENT D'EMPREINTE, ET ENSEMBLE CONSTITUÉ DUDIT MATÉRIAU DE REVÊTEMENT ET D'UNE RÉSERVE D'EMPREINTE
(JA) パターン形成方法、ならびに加工基板、光学部品及び石英モールドレプリカの製造方法、ならびにインプリント前処理コーティング材料及びそれとインプリントレジストとのセット
Abstract:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a pattern formation method which has high throughput and for which a shot area can be processed with uniform precision. A pattern formation method characterized in that, in a method for manufacturing a cured material pattern using optical imprint technology, said manufacturing method having, in the following order, a step (1) for laminating a layer that comprises a curable composition (A1) containing a component (a1) that is a polymerizable compound on at least the surface of a substrate, a step (2) for discretely dripping droplets of a curable composition (A2) containing a component (a2) that is a polymerizable compound and laminating on at least the curable composition (A1) layer, and a step (3) for sandwiching a layer made by partially mixing the curable composition (A1) and the curable composition (A2) between a mold and the substrate, the value Vr/Vc obtained by dividing the volume (Vr) of the curable composition (A2) per shot area by the volume (Vc) of the curable composition (A1) is 4-15.
(FR) L'objectif de la présente invention est de fournir un procédé de formation de motif qui permet une cadence élevée et pour lequel une zone de visée peut être traitée avec une précision uniforme. Un procédé de formation de motif est caractérisé en ce que, dans un procédé de fabrication d'un motif de matériau durci grâce à une technologie d'empreinte optique, ledit procédé de fabrication comprend, dans l'ordre suivant, une étape (1) consistant à stratifier une couche qui comprend une composition durcissable (A1) contenant un composant (a1) qui est un composé polymérisable sur au moins la surface d'un substrat, une étape (2) consistant à faire goutter des gouttelettes distinctes d'une composition durcissable (A2) contenant un composant (a2) qui est un composé polymérisable et la stratifier sur au moins la couche de composition durcissable (A1), et une étape (3) consistant à prendre en sandwich une couche réalisée par mélange partiel de la composition durcissable (A1) et de la composition durcissable (A2) entre un moule et le substrat, la valeur Vr/Vc obtenue en divisant le volume (Vr) de la composition durcissable (A2) par zone de visée par le volume (Vc) de la composition durcissable (A1) étant de 4 à 15.
(JA) 高スループット、かつ、ショット領域を均一な精度で加工可能なパターン形成方法を提供することを目的とする。 基板の表面に少なくとも重合性化合物である成分(a1)を含む硬化性組成物(A1)からなる層を積層する工程(1)、硬化性組成物(A1)層上に少なくとも重合性化合物である成分(a2)を含む硬化性組成物(A2)の液滴を離散的に滴下して積層する工程(2)、モールドと前記基板の間に前記硬化性組成物(A1)及び前記硬化性組成物(A2)が部分的に混合してなる層をサンドイッチする工程(3)をこの順に有する、光インプリント技術による硬化物パターン製造方法において、ショット領域あたりの前記硬化性組成物(A2)の体積(Vr)を前記硬化性組成物(A1)の体積(Vc)で除した値Vr/Vcが4以上15以下であることを特徴とするパターン形成方法。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)