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1. (WO2018161692) HEATING DEVICE FOR PROVIDING RESISTANCE TO LIGHT INDUCED DEGRADATION
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Pub. No.: WO/2018/161692 International Application No.: PCT/CN2017/118881
Publication Date: 13.09.2018 International Filing Date: 27.12.2017
IPC:
H01L 31/18 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
31
Semiconductor devices sensitive to infra-red radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength, or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
Applicants:
东莞市科隆威自动化设备有限公司 FOLUNGWIN AUTOMATIC EQUIPMENT CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省东莞市 寮步镇石步村石大路23号 No. 23 Shida Road, Shibu Village, Liaobu Town Dongguan, Guangdong 523430, CN
Inventors:
罗贤良 LOU, Benny; CN
Agent:
深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) SHENZHEN ZHIQUAN INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; 中国广东省深圳市 南山区粤海街道科华路3号讯美科技广场3号楼506B 506B 3th Bld, Xunmei Science and Technology Square, 3 Kehua Rd, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518057, CN
Priority Data:
201710131975.107.03.2017CN
Title (EN) HEATING DEVICE FOR PROVIDING RESISTANCE TO LIGHT INDUCED DEGRADATION
(FR) DISPOSITIF DE CHAUFFAGE POUR FOURNIR UNE RÉSISTANCE À LA DÉGRADATION INDUITE PAR LA LUMIÈRE
(ZH) 一种抗光衰炉
Abstract:
(EN) A heating device for providing resistance to light induced degradation comprises: a heating device support (1) and multiple constant current sources (2). An endless transport device (3) is provided at the heating device support for transporting a silicon wafer. A pre-heating zone (4), an illumination zone (5) and a cooling zone (6) are sequentially provided at the heating device support in a direction from a feed end to a discharge end of the transport device. A plurality of LED light illumination modules (7) are arranged in parallel above the illumination zone. Each LED light illumination module (7) comprises a plurality of water-cooling LED light bars (8). Each LED light bar is independently controlled by a constant current source. The constant current source independently controls the corresponding LED light bar, such that the LED light bar has an extremely high illumination intensity and a heat generation temperature thereof can be controlled, thereby enabling the LED light bar to operate at a constant temperature. When entering the heating device for providing resistance to light induced degradation, the silicon wafer is exposed to intensive illumination of the LED light illumination modules, such that hydrogen passivation effect on the silicon wafer is significant.
(FR) L'invention concerne un dispositif de chauffage pour fournir une résistance à la dégradation induite par la lumière comprenant : un support de dispositif de chauffage (1) et de multiples sources de courant constant (2). Un dispositif de transport continu (3) est disposé au niveau du support de dispositif de chauffage pour transporter une tranche de silicium. Une zone de préchauffage (4), une zone d'éclairage (5) et une zone de refroidissement (6) sont disposées séquentiellement au niveau du support de dispositif de chauffage dans une direction allant d'une extrémité d'alimentation à une extrémité de décharge du dispositif de transport. Une pluralité de modules d'éclairage à diodes électroluminescentes (7) sont disposés en parallèle au-dessus de la zone d'éclairage. Chaque module d'éclairage à diodes électroluminescentes (7) comprend une pluralité de barres lumineuses à diodes électroluminescentes (8) de refroidissement d'eau. Chaque barre lumineuse à diodes électroluminescentes est commandée indépendamment par une source de courant constant. La source de courant constant commande indépendamment la barre lumineuse à diodes électroluminescentes correspondante, de telle sorte que la barre lumineuse à diodes électroluminescentes présente une intensité d'éclairage extrêmement élevée et une température de génération de chaleur de celle-ci peut être commandée, ce qui permet à la barre lumineuse à diodes électroluminescentes de fonctionner à une température constante. Lors de l'entrée dans le dispositif de chauffage pour fournir une résistance à la dégradation induite par la lumière, la tranche de silicium est exposée à un éclairage intensif des modules d'éclairage de lumière à diodes électroluminescentes, de telle sorte que l'effet de passivation d'hydrogène sur la tranche de silicium est significatif.
(ZH) 一种抗光衰炉,包括炉支架(1)和多个恒流源(2),炉支架上设有循环输送硅片的输送装置(3),炉支架沿输送装置入料端至出料端依次设有预热区(4)、光照区(5)和冷却区(6),光照区的正上方设有若干组并排设置的LED灯光照模组(7),每组LED灯光照模组由多个具有水冷作用的LED灯条(8)组成,每个LED灯条均由一个恒流源独立控制。一个恒流源独立控制一个LED灯条,使LED灯条具有超高光照强度的同时,又可以控制其发热的温度,使LED灯条在一个恒定的温度下工作。硅片进入本抗光衰炉的过程中,经过多组LED灯光照模组的强光照射,硅片氢钝化效果明显。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)