Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2018157977) MEASURING DEVICE FOR MEASURING A WAVEFRONT ERROR OF AN IMAGING OPTICAL SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/157977 International Application No.: PCT/EP2018/025052
Publication Date: 07.09.2018 International Filing Date: 28.02.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G01M 11/02 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
M
TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
11
Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
02
Testing of optical properties
Applicants:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventors:
EHRMANN, Albrecht; DE
HAIDNER, Helmut; DE
SAMANIEGO, Michael; DE
Agent:
SUMMERER, Christian; Zeuner Summerer Stütz Nußbaumstraße 8 80336 München, DE
Priority Data:
10 2017 203 376.202.03.2017DE
Title (EN) MEASURING DEVICE FOR MEASURING A WAVEFRONT ERROR OF AN IMAGING OPTICAL SYSTEM
(FR) DISPOSITIF DE MESURE POUR MESURER UNE ERREUR DE FRONT D'ONDE D'UN SYSTÈME OPTIQUE D'IMAGERIE
(DE) MESSVORRICHTUNG ZUR VERMESSUNG EINES WELLENFRONTFEHLERS EINES ABBILDENDEN OPTISCHEN SYSTEMS
Abstract:
(EN) The invention relates to a measuring device (10) for measuring a wavefront error of an imaging optical system (12), comprising a measuring wave production module (24) that is designed to generate a measuring wave (26) to be irradiated onto the optical system and comprises an illumination system (30) for illuminating a mask layer (14) with illumination radiation (32) and coherence structures (36) arranged in the mask layer, said device also comprising a wavefront measuring module (28) designed in such a way as to measure the measuring wave after it has passed through the optical system and to determine a deviation of the wavefront of the measuring wave from a nominal wavefront, on the basis of the measuring result, by means of an evaluation device (46). The evaluation device (46) is designed to determine an influence of an intensity distribution (70) of the illumination radiation in the region of the mask layer on the measuring result, and to take it into account during the determination of the deviation of the wavefront.
(FR) Un dispositif de mesure (10) d'une erreur de front d'onde d'un système (12) optique d'imagerie comprend un module de génération d'ondes de mesure (24) conçu pour générer une onde de mesure (26) destinée à être incidente au système optique et comprenant un système d'illumination (30) destiné à illuminer un plan de masque (14) avec un rayonnement d'illumination (32) ainsi que des structures de cohérence (36) disposées dans le plan de masque, ainsi qu'un module de mesure de front d'onde (28) conçu pour mesurer l'onde de mesure après avoir traversé le système optique et pour déterminer une déviation de front d'onde de l'onde de mesure par rapport à un front d'onde de consigne au moyen d'un dispositif d'évaluation (46) à partir du résultat de mesure. Le dispositif d'évaluation (46) est conçu pour déterminer une influence d'une distribution d'intensité (70) du rayonnement d'illumination au niveau du plan de masque sur le résultat de mesure et pour en tenir compte lors de la détermination de la déviation du front d'onde.
(DE) Eine Messvorrichtung (10) zur Vermessung eines Wellenfrontfehlers eines abbildenden optischen Systems (12) umfasst ein Messwellenerzeugungsmodul (24), welches dazu konfiguriert ist, eine Messwelle (26) zur Einstrahlung auf das optische System zu erzeugen, und welches ein Beleuchtungssystem (30) zur Beleuchtung einer Maskenebene (14) mit einer Beleuchtungsstrahlung (32) sowie in der Maskenebene angeordnete Kohärenzstrukturen (36) umfasst, sowie ein Wellenfrontmessmodul (28), welches dazu konfiguriert ist, die Messwelle nach Durchlaufen des optischen Systems zu vermessen und aus dem Messergebnis mittels einer Auswerteeinrichtung (46) eine Abweichung der Wellenfront der Messwelle von einer Sollwellenfront zu ermitteln. Die Auswerteeinrichtung (46) ist dazu konfiguriert, einen Einfluss einer Intensitätsverteilung (70) der Beleuchtungsstrahlung im Bereich der Maskenebene auf das Messergebnis zu ermitteln und bei der Ermittlung der Abweichung der Wellenfront zu berücksichtigen.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)