(EN) This electron beam apparatus comprises a projection optical system which directs a plurality of light beams onto a photoelectric element (54), an electron beam optical system (70) which irradiates a wafer (W) with, as a plurality of electron beams, electrons discharged from the photoelectric element, a lid storage plate (68) which supports a lid member (64) released from a main body (52) having the electron discharge surface of the photoelectric element positioned in an internal space thereof, and an actuator (66) for moving the lid storage plate. The lid member (64) can be fitted in a releasable manner to the main body so as to close the opening in the main body, and when the lid member is released from the main body and the lid member supported by the lid storage plate is moved to a retreat position, electrons discharged from the electron discharge surface can move towards the electron beam optical system after passing through the opening in the main body.
(FR) La présente invention concerne un appareil à faisceau d'électrons comprenant un système optique de projection qui dirige une pluralité de faisceaux lumineux sur un élément photoélectrique (54), un système optique à faisceau d'électrons (70) qui irradie une tranche (W) avec, en tant que pluralité de faisceaux d'électrons, des électrons déchargés à partir de l'élément photoélectrique, une plaque de stockage de couvercle (68) qui supporte un élément de couvercle (64) libéré d'un corps principal (52) ayant la surface de décharge d'électrons de l'élément photoélectrique positionnée dans un espace interne de celui-ci, et un actionneur (66) pour déplacer la plaque de stockage de couvercle. L'élément de couvercle (64) peut être ajusté de manière libérable au corps principal de façon à fermer l'ouverture dans le corps principal, et lorsque l'élément de couvercle est libéré du corps principal et que l'élément de couvercle supporté par la plaque de stockage de couvercle est déplacé vers une position de retrait, des électrons déchargés à partir de la surface de décharge d'électrons peuvent se déplacer vers le système optique de faisceau d'électrons après avoir traversé l'ouverture dans le corps principal.
(JA) 電子ビーム装置は、複数の光ビームを光電素子（５４）に照射する投影光学系と、光電素子から放出される電子を複数の電子ビームとしてウエハ（Ｗ）に照射する電子ビーム光学系（７０）と、光電素子の電子放出面が内部空間に配置された本体部（５２）からリリースされた蓋部材（６４）を支持する蓋収納プレート（６８）と、蓋収納プレートを移動するためのアクチュエータ（６６）と、を備え、蓋部材（６４）は、本体部の開口を閉じるように本体部にリリース可能に装着可能であり、本体部から蓋部材がリリースされ、蓋収納プレートに支持された蓋部材が待避位置に移動されると、電子放出面から放出された電子が本体部の開口を介して電子ビーム光学系に向かって移動可能である。
