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1. (WO2018145803) METHODS FOR CONTROLLING LITHOGRAPHIC APPARATUS, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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Pub. No.: WO/2018/145803 International Application No.: PCT/EP2017/083707
Publication Date: 16.08.2018 International Filing Date: 20.12.2017
IPC:
G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
9
Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
QUEENS, Rene, Marinus, Gerardus, Johan; NL
HENKE, Wolfgang, Helmut; NL
DONKERBROEK, Arend, Johannes; NL
COTTAAR, Jeroen; NL
Agent:
PETERS, John; NL
Priority Data:
17155067.607.02.2017EP
Title (EN) METHODS FOR CONTROLLING LITHOGRAPHIC APPARATUS, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉS DE COMMANDE D'APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract:
(EN) A method of controlling a lithographic apparatus to manufacture a plurality of devices on a substrate, the method comprising: obtaining a parameter map representing a parameter variation across the substrate by measuring the parameter at a plurality of points on the substrate; decomposing the parameter map into a plurality of components, including a first parameter map component representing parameter variations associated with the device pattern and one or more further parameter map components representing other parameter variations; deriving a scale factor, configured to correct for errors in measurement of the parameter variation, from measurements of a second parameter of a substrate; and controlling the lithographic apparatus using the parameter map and scale factor to apply a device pattern at multiple locations across the substrate.
(FR) L'invention concerne un procédé de commande d'un appareil lithographique pour fabriquer une pluralité de dispositifs sur un substrat, le procédé comprenant : l'obtention d'une carte de paramètres représentant une variation de paramètre à travers le substrat par la mesure du paramètre au niveau d'une pluralité de points sur le substrat ; la décomposition de la carte de paramètres en une pluralité de composants, comprenant un premier composant de carte de paramètres représentant des variations de paramètre associées au motif de dispositif et un ou plusieurs autres composants de carte de paramètres représentant d'autres variations de paramètre ; la dérivation d’un facteur d'échelle, configuré pour corriger des erreurs dans la mesure de la variation de paramètre, à partir de mesures d'un second paramètre d'un substrat ; et la commande de l'appareil lithographique à l'aide de la carte de paramètres et du facteur d'échelle pour appliquer un motif de dispositif à de multiples emplacements sur le substrat.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)