Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2018141805) METHOD FOR PRODUCING ELEMENTARY SILICON
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/141805 International Application No.: PCT/EP2018/052424
Publication Date: 09.08.2018 International Filing Date: 31.01.2018
IPC:
C01B 33/023 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
01
INORGANIC CHEMISTRY
B
NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF
33
Silicon; Compounds thereof
02
Silicon
021
Preparation
023
by reduction of silica or silica-containing material
Applicants:
SOLAR SILICON GMBH [AT/AT]; Schemerlhöhe 65 8302 Nestelbach, AT
Inventors:
HANDL, Martin; AT
Agent:
SCHWARZ & PARTNER PATENTANWÄLTE OG; Wipplingerstrasse 30 1010 Wien, AT
NEMEC, Harald; AT
Priority Data:
17154793.806.02.2017EP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING ELEMENTARY SILICON
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SILICIUM ÉLÉMENTAIRE
(DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON ELEMENTAREM SILIZIUM
Abstract:
(EN) The present invention relates to a method for producing elementary silicon from silicon oxides of formula SixOy, where x ≥ 1 and y > 1, in particular silicon dioxide. The method according to the invention comprises the steps: a) reducing the silicon oxide to silicon monoxide by means of a gaseous reducing agent at a temperature of 1000°C to 2500°C, forming a gas phase containing the silicon monoxide; b) reducing the silicon monoxide produced in step a) by means of a gaseous reducing agent at a temperature of 1500°C or more, forming elementary silicon, which is separated off, and a residual gas phase.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production de silicium élémentaire à partir d'oxydes de silicium de formule SixOy, dans laquelle x ≥ 1 et y > 1, de dioxyde de silicium. Le procédé selon l'invention comprend les étapes suivantes : a) réduction de l'oxyde de silicium en monoxyde de silicium au moyen d'un agent de réduction gazeux à une température comprise entre 1 000°C et 2 500°C, ce qui entraîne la formation d’une phase gazeuse contenant le monoxyde de silicium, b) réduction du monoxyde de silicium obtenu à l'étape a) au moyen d'un agent de réduction gazeux à une température de 1 500 °C ou plus, ce qui entraîne la formation du silicium élémentaire, qui est séparé, et d’une phase gazeuse restante.
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von elementarem Silizium aus Siliziumoxiden der Formel SixOy, wobei x ≥ 1 und y > 1, insbesondere Siliziumdioxid. Das erfindungsgemäße Verfahren umfasst die Schritte: a) Reduktion des Siliziumoxides zu Siliziummonoxid mittels eines gasförmigen Reduktionsmittels bei einer Temperatur von 1000°C bis 2500°C, wobei sich eine Gasphase enthaltend das Siliziummonoxid bildet b) Reduktion des im Schritt a) entstandenen Siliziummonoxides mittels eines gasförmigen Reduktionsmittels bei einer Temperatur von 1500°C oder mehr, wobei sich elementares Silizium, welches abgetrennt wird, und eine verbleibende Gasphase bilden.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)