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1. (WO2018137816) A LITHOGRAPHY APPARATUS AND A METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE
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Pub. No.: WO/2018/137816 International Application No.: PCT/EP2017/081345
Publication Date: 02.08.2018 International Filing Date: 04.12.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
HOEFNAGELS, Pieter, Jeroen, Johan, Emanuel; NL
KOX, Ronald, Frank; NL
BOMBEECK, John, Maria; NL
MELMAN, Johannes, Cornelis, Paulus; NL
BLOKS, Ruud, Hendrikus, Martinus, Johannes; NL
NEEFS, Patricius, Jacobus; NL
Agent:
DUNG, S.; NL
Priority Data:
17153339.126.01.2017EP
Title (EN) A LITHOGRAPHY APPARATUS AND A METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE
(FR) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN DISPOSITIF
Abstract:
(EN) A device manufacturing method comprising: confining a liquid to an immersion space between a projection system and a facing surface of an object on a support table and/or the support table using a liquid confinement structure; starting application of an underpressure to an extraction unit to remove fluid from a position proximate an edge of the object before the immersion space moves onto the object; moving the support table along a route comprising a series of motions such that a plurality of target positions on the object pass under the projection system; projecting through the immersion space a patterned beam onto the target portions of the object as the target portions pass under the projection system, wherein the projecting is performed to account for a certain predetermined thermal profile in the object; stopping application of the underpressure at a predetermined time after the immersion space moves off the object for the last time during the series of motions, thereby at least partly to induce the certain predetermined thermal profile in the object.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication de dispositif qui comprend les étapes consistant à : confiner un liquide dans un espace d'immersion entre un système de projection et une surface faisant face d'un objet sur une table de support et/ou la table de support à l'aide d'une structure de confinement de liquide; démarrer l'application d'une sous-pression à une unité d'extraction pour éliminer le fluide d'une position à proximité d'un bord de l'objet avant que l'espace d'immersion se déplace sur l'objet; déplacer la table de support le long d'un itinéraire comprenant une série de mouvements de telle sorte qu'une pluralité de positions cibles sur l'objet passent sous le système de projection; projeter à travers l'espace d'immersion, un faisceau à motifs sur les parties cibles de l'objet à mesure que les parties cibles passent sous le système de projection, la projection étant réalisée pour tenir compte d'un certain profil thermique prédéterminé dans l'objet; arrêter l'application de la sous-pression à un moment prédéterminé après que l'espace d'immersion se déplace hors de l'objet pendant la dernière durée pendant la série de mouvements, ce qui permet au moins partiellement d'induire le certain profil thermique prédéterminé dans l'objet.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)