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1. (WO2018131495) METHOD FOR FORMING COVER FILM, METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE, AND COMPOSITION
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Pub. No.: WO/2018/131495 International Application No.: PCT/JP2017/047081
Publication Date: 19.07.2018 International Filing Date: 27.12.2017
IPC:
H01L 21/312 (2006.01) ,C09D 7/40 (2018.01) ,C09D 125/04 (2006.01) ,C09D 133/00 (2006.01) ,C09D 133/04 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION[JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
Inventors: FURUICHI Kouta; JP
KOMATSU Hiroyuki; JP
MARUYAMA Ken; JP
NARUOKA Takehiko; JP
Agent: AMANO Kazunori; JP
Priority Data:
2017-00218010.01.2017JP
Title (EN) METHOD FOR FORMING COVER FILM, METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE, AND COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE PELLICULE DE COUVERTURE, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, ET COMPOSITION
(JA) カバー膜形成方法、基材の処理方法及び組成物
Abstract: front page image
(EN) The present invention is a method for forming a cover film, which comprises: a step for preparing a substrate wherein a surface layer has a region that contains metal atoms; a step for coating the surface of the substrate with a composition that contains a first polymer and a solvent; and a step for heating a coating film that is formed by the coating step. In this method for forming a cover film, the first polymer has a first structural unit represented by formula (1). In formula (1), A represents a monovalent organic group having a nitrogen atom, and it is preferable that A in formula (1) is represented by formula (i). In formula (i), Q represents a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms, a monovalent primary, secondary or tertiary amino group having 0-20 carbon atoms or a divalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms, which is substituted by a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group having 5-20 ring members; and RB represents a monovalent primary, secondary or tertiary amino group having 0-20 carbon atoms or a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group having 5-20 ring members.
(FR) La présente invention est un procédé de production d’une pellicule de couverture, qui consiste : en une étape de préparation d’un substrat dans lequel une couche de surface a une zone qui contient des atomes de métal ; en une étape de revêtement de la surface du substrat d’une composition qui contient un premier polymère et un solvant ; et en une étape de chauffage d’une pellicule de revêtement qui est formée lors de l’étape de revêtement. Selon ce procédé de formation d’une pellicule de couverture, le premier polymère a une première unité structurelle représentée par la formule (1). Dans la formule (1), A représente un groupe organique ayant un atome d’azote, et il est préférable qu’A dans la formule (1) soit représenté par la formule (i). Dans la formule (i), Q représente une liaison simple, un groupe hydrocarbure divalent ayant 1 à 20 atomes de carbone, un groupe amino primaire, secondaire ou tertiaire monovalent ayant 0 à 20 atomes de carbone ou un groupe hydrocarbure divalent ayant 1 à 20 atomes de carbone, lequel est substitué par un groupe hétérocyclique monovalent contenant de l’azote ayant 5 à 20 chaînons ; et RB représente un groupe amino primaire, secondaire ou tertiaire monovalent ayant 0 à 20 atomes de carbone ou un groupe hétérocyclique monovalent contenant de l’azote ayant 5 à 20 chaînons.
(JA) 本発明は、金属原子を含む領域を表層に有する基材を準備する工程と、上記基材の表面に、第1重合体及び溶媒を含有する組成物を塗工する工程と、上記塗工工程により形成される塗膜を加熱する工程とを備え、上記第1重合体が下記式(1)で表される第1構造単位を有するカバー膜形成方法である。下記式(1)中、Aは、窒素原子を有する1価の有機基である。上記式(1)におけるAは、下記式(i)で表されることが好ましい。下記式(i)中、Qは、単結合又は炭素数1~20の2価の炭化水素基又は炭素数0~20の1価の1級、2級若しくは3級のアミノ基若しくは環員数5~20の1価の窒素含有複素環基で置換された炭素数1~20の2価の炭化水素基である。Rは、炭素数0~20の1価の1級、2級若しくは3級のアミノ基又は環員数5~20の1価の窒素含有複素環基である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)