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1. (WO2018128995) SYSTEMS AND METHODS FOR DEFECT MATERIAL CLASSIFICATION
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Pub. No.: WO/2018/128995 International Application No.: PCT/US2018/012103
Publication Date: 12.07.2018 International Filing Date: 02.01.2018
IPC:
H01L 21/66 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
66
Testing or measuring during manufacture or treatment
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
Applicants:
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Dept. One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventors:
ZHAO, Guoheng; US
LEONG, Jenn-Kuen; US
KIRK, Michael; US
Agent:
McANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M.N; US
Priority Data:
15/480,20605.04.2017US
62/442,83805.01.2017US
Title (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR DEFECT MATERIAL CLASSIFICATION
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE CLASSIFICATION DE MATÉRIAUX DÉFECTUEUX
Abstract:
(EN) A inspection system includes an illumination source to generate an illumination beam, focusing elements to direct the illumination beam to a sample, a detector, collection elements configured to direct radiation emanating from the sample to the detector, a detection mode control device to image the sample in two or more detection modes such that the detector generates two or more collection signals based on the two or more detection modes, and a controller. Radiation emanating from the sample includes at least radiation specularly reflected by the sample and radiation scattered by the sample. The controller determines defect scattering characteristics associated with radiation scattered by defects on the sample based on the two or more collection signals. The controller also classifies the one or more particles according to a set of predetermined defect classifications based on the one or more defect scattering characteristics.
(FR) Un système d'inspection comprend une source d'éclairage pour générer un faisceau d'éclairage, des éléments de focalisation pour diriger le faisceau d'éclairage vers un échantillon, un détecteur, des éléments de collecte configurés pour diriger un rayonnement émanant de l'échantillon vers le détecteur, un dispositif de commande de mode de détection pour imager l'échantillon dans au moins deux modes de détection de telle sorte que le détecteur génère au moins deux signaux de collecte sur la base des deux modes de détection ou plus, et un dispositif de commande. Le rayonnement émanant de l'échantillon comprend au moins un rayonnement réfléchi de manière spéculaire par l'échantillon et un rayonnement diffusé par l'échantillon. Le dispositif de commande détermine des caractéristiques de diffusion de défaut associées au rayonnement diffusé par des défauts sur l'échantillon sur la base des deux signaux de collecte ou plus. Le dispositif de commande classifie également la ou les particules selon un ensemble de classifications de défauts prédéterminées sur la base de la ou des caractéristiques de diffusion de défaut.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)