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1. (WO2018127565) GUIDING DEVICE AND ASSOCIATED SYSTEM
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Pub. No.: WO/2018/127565 International Application No.: PCT/EP2018/050278
Publication Date: 12.07.2018 International Filing Date: 05.01.2018
IPC:
H05G 2/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
[IPC code unknown for H05G 2][IPC code unknown for G03F 7/20]
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
LABETSKI, Dzmitry; NL
BERENDSEN, Christianus, Wilhelmus, Johannes; NL
DUARTE RODRIGES NUNES, Rui, Miguel; NL
ERSHOV, Alexander, Igorevich; US
FEENSTRA, Kornelis, Frits; NL
FOMENKOV, Igor, Vladimirovich; US
HUMMLER, Klaus, Martin; US
JOHNKADAKSHAM, Arun; US
KRAUSHAAR, Matthias; NL
LAFORGE, Andrew, David; US
LANGLOIS, Marc, Guy; US
LOGINOV, Maksim; NL
MA, Yue; US
MOJAB, Seyedmohammad; US
NADIR, Kerim; NL
SHATALOV, Alexander; NL
STEWART, John, Tom,; US
TEGENBOSCH, Henricus, Gerardus; NL
XIA, Chunguang; US
Agent:
FILIP, Diana; NL
Priority Data:
15/400,92906.01.2017US
17158280.228.02.2017EP
62/596,62908.12.2017US
Title (EN) GUIDING DEVICE AND ASSOCIATED SYSTEM
(FR) DISPOSITIF DE GUIDAGE ET SYSTÈME ASSOCIÉ
Abstract:
(EN) A radiation source including a chamber including a plasma formation region, a radiation collector arranged in the chamber, the radiation collector configured to collect radiation emitted at the plasma formation region and to direct the collected radiation to an intermediate focus region, a debris mitigation system configured to direct a first gas flow from the intermediate focus region towards the plasma formation region, and a guiding device arranged in the chamber such that the first gas flow is directed around the guiding device. A system and apparatus for reducing contamination of an inner vessel wall of an EUV vessel is provided. The system and apparatus include inner vessel wall supplies of gas that introduce gas via a plurality of nozzles away from the inner vessel wall. The system and apparatus also optionally include an asymmetric exhaust to exhaust gas from the EUV vessel while providing flow geometries that promote a direction of gas away from the inner vessel wall and an EUV collector within the EUV vessel.
(FR) L'invention concerne une source de rayonnement qui comprend une chambre comprenant une région de formation de plasma, un collecteur de rayonnement agencé dans la chambre, le collecteur de rayonnement étant conçu pour collecter un rayonnement émis au niveau de la région de formation de plasma et pour diriger le rayonnement collecté vers une région de focalisation intermédiaire, un système d'atténuation de débris conçu pour diriger un premier flux de gaz depuis la région de focalisation intermédiaire vers la région de formation de plasma, et un dispositif de guidage agencé dans la chambre de telle sorte que le premier flux de gaz est dirigé autour du dispositif de guidage. L'invention concerne également un système et un appareil permettant de réduire la contamination d'une paroi de cuve interne d'une cuve EUV. Le système et l'appareil comprennent des alimentations en gaz de la paroi de cuve interne qui introduisent du gaz par l'intermédiaire d'une pluralité de buses éloignées de la paroi de cuve interne. Le système et l'appareil comprennent également éventuellement un échappement asymétrique pour évacuer le gaz de la cuve EUV tout en fournissant des géométries d'écoulement qui favorisent une direction de gaz à l'opposé de la paroi de cuve interne et un collecteur EUV à l'intérieur de la cuve EUV.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)