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1. (WO2018127561) METHOD AND APPARATUS FOR ETCHING A SUBSTRATE
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Pub. No.: WO/2018/127561 International Application No.: PCT/EP2018/050270
Publication Date: 12.07.2018 International Filing Date: 05.01.2018
IPC:
H01L 21/67 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
Applicants:
INSTITUT NATIONAL DE LA SANTÉ ET DE LA RECHERCHE MÉDICALE (INSERM) [FR/FR]; 101, rue de Tolbiac 75013 PARIS, FR
UNIVERSITÉ D'AIX-MARSEILLE [FR/FR]; 58, boulevard Charles Livon 13007 MARSEILLE, FR
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) [FR/FR]; 3, rue Michel Ange 75016 PARIS, FR
Inventors:
BELOUGNE, Jérôme; FR
CAILLARD, Céline; FR
Agent:
CABINET NONY; 11 rue Saint-Georges 75009 PARIS, FR
Priority Data:
17305019.609.01.2017EP
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR ETCHING A SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE GRAVURE D'UN SUBSTRAT
Abstract:
(EN) The invention relates to the field of method of etching a substrate (W), in particular a wafer, in order to produce a grid of micro-protrusion. Such grid of micro-protrusion is generally made using UV photolithography followed by wet and chemical engraving with an etching solution. Most of the currently available methods do not lead to an even attack of the wafer surface by the etching solution because the reaction produces a release of micro-bubbles which, if not properly evacuated, disturb the etching process. In the present invention, substrate(s) (W) are disposed on a magnetic supporting device (1) which is driven in rotation in the etching solution via a magnetic agitator external to the etching solution, so that the magnetic supporting device (1) causes the substrate to rotate at least in a same direction as the magnetic supporting device (1). The present invention makes it possible to obtain substrates with good homogeneity.
(FR) L'invention concerne le domaine du procédé de gravure d'un substrat (W), en particulier d'une tranche, afin de réaliser une matrice de microprotubérances. Une telle matrice de microprotubérances est généralement réalisée à l'aide d'une photolithographie UV suivie d'une gravure humide et chimique avec une solution de gravure. La plupart des procédés actuellement disponibles ne conduisent pas à une attaque uniforme de la surface de la tranche par la solution de gravure car la réaction produit une libération de micro-bulles qui, si elles ne sont pas correctement évacuées, perturbent le processus de gravure. Dans la présente invention, un substrat (s) (W) est disposé sur un dispositif de support magnétique (1) qui est entraîné en rotation dans la solution de gravure par l'intermédiaire d'un agitateur magnétique externe à la solution de gravure, de telle sorte que le dispositif de support magnétique (1) amène le substrat à tourner au moins dans une même direction que le dispositif de support magnétique (1). La présente invention permet d'obtenir des substrats présentant une bonne homogénéité.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)