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1. (WO2018126507) PHOTORESIST COATING METHOD AND DEVICE
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Pub. No.: WO/2018/126507 International Application No.: PCT/CN2017/073211
Publication Date: 12.07.2018 International Filing Date: 10.02.2017
IPC:
G03F 7/16 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Coating processes; Apparatus therefor
Applicants:
中国科学院光电技术研究所 THE INSTITUTE OF OPTICS AND ELECTRONICS, THE CHINESE ACADEMY OF SCIENCES [CN/CN]; 中国四川省成都市 双流350信箱 P.O.Box 350, Shuangliu Chengdu, Sichuan 610209, CN
Inventors:
罗先刚 LUO, Xiangang; CN
王彦钦 WANG, Yanqin; CN
赵泽宇 ZHAO, Zeyu; CN
蒲明博 PU, Mingbo; CN
高平 GAO, Ping; CN
马晓亮 MA, Xiaoliang; CN
李雄 LI, Xiong; CN
郭迎辉 GUO, Yinghui; CN
Agent:
中科专利商标代理有限责任公司 CHINA SCIENCE PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.; 中国北京市 海淀区西三环北路87号4-1105室 Suite 4-1105, No. 87, West 3rd Ring North Rd., Haidian District Beijing 100089, CN
Priority Data:
201710004036.004.01.2017CN
Title (EN) PHOTORESIST COATING METHOD AND DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE REVÊTEMENT DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(ZH) 光刻胶涂覆方法和装置
Abstract:
(EN) Disclosed is a photoresist coating device and a photoresist coating method. The photoresist coating device comprises: a gas supply unit (10) for supplying gas to a photoresist coating unit (20); the photoresist coating unit (20) comprising: an equipment chamber (202) encapsulated by a side wall, a bottom plate and a cover plate (206), a rotary platform (204) for bearing a substrate (205) and driving the substrate to rotate, a flow guide unit conformal with the substrate for uniformly blowing the gas supplied from the gas supply unit over the surface of the substrate coated with photoresist; and an extraction unit (203) for extracting the gas from the equipment chamber (202). The method achieves rapid and uniform photoresist coating of large-area substrates.
(FR) La présente invention concerne un appareil et un procédé de revêtement de résine photosensible. Le dispositif de revêtement de résine photosensible comprend : une unité d'alimentation en gaz (10) pour fournir un gaz à une unité de revêtement de résine photosensible (20) ; l'unité de revêtement de résine photosensible (20) comprenant : une chambre d'équipement (202) encapsulée par une paroi latérale, une plaque inférieure et une plaque de couverture (206), une plateforme rotative (204) pour supporter un substrat (205) et entraîner le substrat en rotation, une unité de guidage d'écoulement conforme au substrat pour souffler uniformément le gaz fourni par l'unité d'alimentation en gaz sur la surface du substrat revêtu de résine photosensible ; et une unité d'extraction (203) pour extraire le gaz de la chambre d'équipement (202). Le procédé permet d'obtenir un revêtement de résine photosensible rapide et uniforme de substrats de grande surface.
(ZH) 一种光刻胶涂覆装置和光刻胶涂覆方法。光刻胶涂覆装置包括:供气单元(10),用于向光刻胶涂覆单元(20)供应气体;所述光刻胶涂覆单元(20),包括:由侧壁、底板和盖板(206)包封的设备腔体(202),旋转平台(204),用于承载基片(205)并带动基片旋转,与基片共形的导流单元,用于将供气单元供应的气体均匀地吹过涂覆了光刻胶的基片表面;以及抽气单元(203),对设备腔体(202)抽气。该方法实现了大面积基片的快速均匀光刻胶涂覆。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)