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1. (WO2018124316) CALIBRATION DEVICE FOR RESISTANCE VALUE AND MEASUREMENT DEVICE RESISTANCE MEASURING FUNCTION USING BINARY-MULTIPLE RESISTANCE INCREASE, AND RESISTANCE CALIBRATION METHOD USING SAME
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Pub. No.: WO/2018/124316 International Application No.: PCT/KR2016/015303
Publication Date: 05.07.2018 International Filing Date: 27.12.2016
IPC:
G01R 27/02 (2006.01) ,G01R 35/00 (2006.01) ,G01R 17/10 (2006.01)
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
R
MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
27
Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
02
Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
R
MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
35
Testing or calibrating of apparatus covered by the other groups of this subclass
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
R
MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
17
Measuring arrangements involving comparison with a reference value, e.g. bridge
10
ac or dc measuring bridges
Applicants:
한국표준과학연구원 KOREA RESEARCH INSTITUTE OF STANDARDS AND SCIENCE [KR/KR]; 대전시 유성구 가정로 267 267 Gajeong-ro Yuseong-gu Daejeon 34113, KR
Inventors:
유광민 YU, Kwang-Min; KR
김완섭 KIM, Wan-Seop; KR
강전홍 KANG, Jeon-Hong; KR
이상화 LEE, Sang-Hwa; KR
Agent:
진용석 JIN, Yong-Suk; KR
Priority Data:
10-2016-017890626.12.2016KR
Title (EN) CALIBRATION DEVICE FOR RESISTANCE VALUE AND MEASUREMENT DEVICE RESISTANCE MEASURING FUNCTION USING BINARY-MULTIPLE RESISTANCE INCREASE, AND RESISTANCE CALIBRATION METHOD USING SAME
(FR) DISPOSITIF D’ÉTALONNAGE POUR VALEUR DE RÉSISTANCE ET FONCTION DE MESURE DE RÉSISTANCE DE DISPOSITIF DE MESURE UTILISANT UNE AUGMENTATION DE RÉSISTANCE MULTIPLE BINAIRE, ET PROCÉDÉ D’ÉTALONNAGE DE RÉSISTANCE UTILISANT CELUI-CI
(KO) 이진배수 저항 증가를 이용한 저항값 및 측정장치 저항측정기능 교정장치 및 이를 이용한 저항 교정방법
Abstract:
(EN) The present invention relates to a calibration device for a resistance value and a measurement device resistance measuring function using a binary-multiple resistance increase and to a resistance calibration method using same, the device and method being capable of adjusting a resistance value error of a target resistor by measuring the resistance value error of the target resistor through a resistance value of a reference resistor and adjust the error of the resistance measuring function of a measurement unit. The calibration device comprises: a reference resistor which has a reference set value; a pair of target resistors which have resistance values corresponding to the reference resistance, incrementally increases and have the same resistance value; a measurement unit which is connected to both ends of the reference resistor and the target resistor and measures resistance values of the reference resistor and the target resistor; a comparison unit which is connected to the measurement unit and compares a reference resistance measurement value measured from the reference resistor with the measurement value measured from the target resistor; a display unit which displays the reference resistance measurement value and the target resistance measurement value compared by the comparison unit; and a storage unit which stores the reference resistance measurement value and the target resistance measurement value displayed on the display unit.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d’étalonnage pour une valeur de résistance et une fonction de mesure de résistance de dispositif de mesure utilisant une augmentation de résistance multiple binaire qui peut ajuster une erreur de valeur de résistance d’une résistance cible par mesure de l’erreur de valeur de résistance de la résistance cible par l’intermédiaire d’une valeur de résistance de résistance de référence et ajuster l’erreur de la fonction de mesure de résistance d’une unité de mesure, et un procédé d’étalonnage de résistance utilisant celui-ci, le dispositif d’étalonnage comprenant une résistance de référence qui a une valeur de consigne de référence ; une paire de résistances cibles qui ont des valeurs de résistance correspondant à la résistance de référence, augmente de façon incrémentielle et ont la même valeur de résistance ; une unité de mesure qui est connectée aux deux extrémités de la résistance de référence et de la résistance cible et mesure des valeurs de résistance de la résistance de référence et de la résistance cible ; une unité de comparaison qui est connectée à l’unité de mesure et compare une valeur de mesure de résistance de référence mesurée à partir de la résistance de référence à la valeur de mesure mesurée à partir de la résistance cible ; une unité d’affichage qui affiche la valeur de mesure de résistance de référence et la valeur de mesure de résistance cible comparée par l’unité de comparaison ; et une unité de stockage qui stocke la valeur de mesure de résistance de référence et la valeur de mesure de résistance cible affichée sur l’unité d’affichage.
(KO) 본 발명은 기준저항의 저항값을 통해 대상저항의 저항값 오차를 측정하여 대상저항의 저항값 오차를 조정하고, 측정부의 저항 측정기능의 오차를 조정할 수 있도록 하는 이진배수 저항 증가를 이용한 저항값 및 측정장치 저항측정기능 교정장치 및 이를 이용한 저항 교정방법에 관한 것으로서, 기준이 되는 설정값을 갖는 기준저항; 상기 기준저항과 대응되는 저항값을 가지며, 점차적으로 증가되고, 동일한 저항값을 갖는 한쌍의 대상저항; 상기 기준저항의 양단 및 대상저항에 연결되어 기준저항 및 대상저항의 저항값을 측정하는 측정부; 상기 측정부에 연결되어 기준저항을 측정한 기준저항 측정값과 대상저항을 측정한 측정값을 비교하는 비교부; 상기 비교부에서 비교되는 기준저항 측정값과 대상저항 측정값을 표시하는 표시부 및 상기 표시부에 표시되는 기준저항 측정값과 대상저항 측정값을 저장하는 저장부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
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African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Korean (KO)
Filing Language: Korean (KO)