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1. (WO2018120365) OLED BACKPLATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
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Pub. No.: WO/2018/120365 International Application No.: PCT/CN2017/073596
Publication Date: 05.07.2018 International Filing Date: 15.02.2017
IPC:
H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 21/77 (2017.01)
Applicants: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.[CN/CN]; NO.9-2, Tangming Road, Guangming District of Shenzhen, Guangdong 518132, CN
Inventors: BAI, Dan; CN
HSU, Yuanjun; CN
Agent: COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; Room 15E, Shenkan Building, Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028, CN
Priority Data:
201611243671.629.12.2016CN
Title (EN) OLED BACKPLATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) PLAQUE ARRIÈRE À DELO ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(ZH) OLED背板及其制作方法
Abstract: front page image
(EN) The present invention provides an OLED backplate and a manufacturing method therefor. The manufacturing method for an OLED backplate of the present invention comprises forming a planarization layer on an interlayer dielectric layer. On one hand, the planarization layer can serve as a mask for an interlayer dielectric layer etching process; on the other hand, the planarization layer can make the surface of a second source prepared on the surface of the planarization layer flat, thereby facilitating the increase of the area of a light emitting region of an OLED and increasing the aperture ratio. By providing a planarization layer on an interlayer dielectric layer, the OLED backplate of the present invention makes the surface of a second source prepared on the surface of the planarization layer flat, thereby implementing a large area of a light emitting region of an OLED and a high aperture ratio.
(FR) La présente invention concerne une plaque arrière à DELO et son procédé de fabrication. Le procédé de fabrication d'une plaque arrière à DELO de la présente invention consiste à former une couche de planarisation sur une couche diélectrique intercouche. D'une part, la couche de planarisation peut servir de masque pour un processus de gravure de couche diélectrique intercouche ; d'autre part, la couche de planarisation peut rendre la surface d'une seconde source préparée sur la surface de la couche de planarisation plate, ce qui facilite l'augmentation de la surface d'une région électroluminescente d'une DELO et augmente le rapport d'ouverture. En fournissant une couche de planarisation sur une couche diélectrique intercouche, la plaque arrière à DELO de la présente invention rend la surface d'une seconde source préparée sur la surface de la couche de planarisation plate, ce qui permet de mettre en œuvre une grande surface d'une région électroluminescente d'une DELO et un rapport d'ouverture élevé.
(ZH) 本发明提供一种OLED背板及其制作方法。本发明的OLED背板的制作方法,通过在层间介电层上形成平坦层,所述平坦层一方面可以充当层间介电层蚀刻制程的掩膜,另一方面可以使制备于其表面的第二源极的表面平整,有利于增大OLED发光区的面积,提高开口率。本发明的OLED背板,通过在层间介电层上设置平坦层,使得制备于平坦层表面的第二源极的表面平整,OLED发光区的面积较大,开口率较高。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)