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1. (WO2018108380) LITHOGRAPHY APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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Pub. No.: WO/2018/108380 International Application No.: PCT/EP2017/077950
Publication Date: 21.06.2018 International Filing Date: 01.11.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
EUMMELEN, Erik, Henricus, Egidius, Catharina; NL
DEBOUGNOUX, Frank; NL
CUYPERS, Koen; NL
LEMPENS, Han, Henricus, Aldegonda; NL
POLET, Theodorus, Wilhelmus; NL
VIEYRA SALAS, Jorge, Alberto; NL
BOMBEECK, John, Maria; NL
MELMAN, Johannes, Cornelis, Paulus; NL
GATTOBIGIO, Giovanni, Luca; NL
Agent:
DUNG, S.; NL
Priority Data:
16203967.114.12.2016EP
17163003.127.03.2017EP
Title (EN) LITHOGRAPHY APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract:
(EN) An immersion lithography apparatus comprising: a support table (WT) configured to support an object (W) having at least one target portion (C); a projection system (PS) configured to project a patterned beam onto the object; a positioner (PW) configured to move the support table relative to the projection system; a liquid confinement structure (12) configured to confine a liquid to an immersion space (10) between the projection system and a surface of the object and/or the support table using a fluid flow into and/or out of the liquid confinement structure through a series of openings (60, 300) formed in the liquid confinement structure; and a controller configured to control the positioner to move the support table to follow a route comprised of a series of motions and to control the liquid confinement structure wherein each motion involves the support table moving relative to the liquid confinement structure such that a portion of the support table which moves from being not under the liquid confinement structure to being under the liquid confinement structure passes under a leading edge of the liquid confinement structure and a portion of the support table which moves from being under the liquid confinement structure to being not under the liquid confinement structure passes under a trailing edge of the liquid confinement structure, the controller adapted to: predict whether the liquid will be lost from the immersion space during at least one motion of the series of motions in which an edge of the immersion space passes over an edge of the object, and if liquid loss from the immersion space is predicted, to modify the fluid flow such that a first fluid flow rate into or out of an opening of the series of openings at the leading edge of the liquid confinement structure is different to a second fluid flow rate into or out of an opening of the series of openings at the trailing edge of the liquid confinement structure during the motion of predicted liquid loss or a motion of the series of motions subsequent to the motion of predicted liquid loss.
(FR) La présente invention concerne un appareil de lithographie d'immersion comprenant : une table de support (WT) conçue pour soutenir un objet (W) ayant au moins une partie cible (C) ; un système de projection (PS) conçu afin de projeter un faisceau à motifs sur l'objet ; un positionneur (PW) configuré afin de déplacer la table de support par rapport au système de projection ; une structure de confinement de liquide (12) conçue afin de confiner un liquide dans un espace d'immersion (10) entre le système de projection et une surface de l'objet et/ou la table de support utilisant un écoulement de fluide dans et/ou à l'extérieur de la structure de confinement de liquide à travers une série d'ouvertures (60, 300) formée dans la structure de confinement de liquide ; et un dispositif de commande configuré afin de commander le positionneur afin de déplacer la table de support afin de suivre une route comprenant une série de mouvements et afin de commander la structure de confinement de liquide, chaque mouvement impliquant la table de support se déplaçant par rapport à la structure de confinement de liquide de telle manière qu'une partie de la table de support, qui se déplace d'une position où cette dernière n'est pas sous la structure de confinement de liquide à une position où cette dernière est sous la structure de confinement de liquide, se déplace sous un bord avant de la structure de confinement de liquide et une partie de la table de support qui se déplace d'une position où cette dernière est sous la structure de confinement de liquide à une position où cette dernière n'est pas sous la structure de confinement de liquide, se déplace sous un bord arrière de la structure de confinement de liquide, le dispositif de commande étant adapté : à prédire si le liquide se perd à partir de l'espace d'immersion pendant au moins un mouvement de la série de mouvements dans laquelle un bord de l'espace d'immersion se déplace sur un bord de l'objet, et si la perte de liquide à partir de l'espace d'immersion est prédite, à modifier l'écoulement de fluide de telle manière qu'un premier débit d'écoulement de fluide à l'intérieur ou à l'extérieur d'une ouverture des séries d'ouvertures au niveau du bord avant de la structure de confinement de liquide est différent d'un second débit d'écoulement de fluide à l'intérieur ou à l'extérieur d'une ouverture des séries d'ouvertures au niveau du bord arrière de la structure de confinement de liquide pendant le mouvement d'une perte de liquide prédite ou un mouvement des séries de mouvements ultérieurs au mouvement de la perte de liquide prédite.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)