WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Options
Query Language
Stem
Sort by:
List Length
Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2018108244) REFLECTION MEASURING METHOD AND MEASURING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/108244 International Application No.: PCT/EP2016/080760
Publication Date: 21.06.2018 International Filing Date: 13.12.2016
IPC:
A61B 5/00 (2006.01) ,G01N 21/47 (2006.01)
A HUMAN NECESSITIES
61
MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
B
DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
5
Measuring for diagnostic purposes; Identification of persons
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
N
INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21
Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible, or ultra-violet light
17
Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
47
Scattering, i.e. diffuse reflection
Applicants: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT[DE/DE]; Werner-von-Siemens-Straße 1 80333 München, DE
Inventors: ENGEL, Thomas; DE
FLEISCHER, Maximilian; DE
GIGLER, Alexander Michael; DE
PASTUSIAK, Remigiusz; DE
PAUST, Tobias; DE
SIMON, Elfriede; DE
STÜTZ, Evamaria; DE
Priority Data:
Title (EN) REFLECTION MEASURING METHOD AND MEASURING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DESTINÉ À LA MESURE D'UNE RÉFLEXION ET DISPOSITIF DE MESURE
(DE) VERFAHREN ZUR REFLEXIONSMESSUNG UND MESSVORRICHTUNG
Abstract:
(EN) The invention relates to a method for measuring the reflection of radiation (9) on a sample (5), wherein - the radiation (9) is deflected in the form of an at least partly focused entering beam (11) from a radiation source (13) onto a selected sample region (6), - the method has a plurality of separate successive measuring steps (m1, m2, mk), - in each measuring step (m1, m2, mk), the quantity of radiation (19) reflected from the selected sample region (6) in the direction of a radiation detector (21) is measured, - at least some of the individual measuring steps (m1, m2, mk) differ with respect to the depth of focus (d) of the entering beam (11), and - additionally at least some of the individual measuring steps (m1, m2, mk) differ with respect to the intensity of the entering beam (11). The invention additionally relates to a device for carrying out such a method and to the use of such a device for examining a medical tissue sample.
(FR) L'invention concerne un procédé destiné à la mesure de la réflexion d'un rayonnement (9) sur un échantillon (5), le rayonnement (9) étant dirigé par une source de rayonnement (13) sur une zone d’échantillon sélectionnée (6) sous la forme d'un faisceau d'entrée (11) au moins en partie focalisé, le procédé comportant une pluralité d'étapes de mesure successives distinctes (m1, m2, mk), la quantité de rayonnement réfléchie (19) par la zone d’échantillon sélectionnée (6) en direction d'un détecteur de rayonnement (21) étant mesurée à chaque étape de mesure (m1, m2, mk), au moins une partie des différentes étapes de mesure (m1, m2, mk) différant en ce qui concerne la profondeur de champ (d) du faisceau d'entrée (11), et au moins une partie des différentes étapes de mesure (m1, m2, mk) différant en outre en ce qui concerne l'intensité du faisceau d'entrée (11). L'invention concerne également un dispositif destiné à la mise en œuvre dudit procédé ainsi que l'utilisation d'un dispositif de ce type pour l'analyse d'un échantillon de tissu médical.
(DE) Es wird ein Verfahren zur Messung der Reflexion von Strahlung (9) an einer Probe (5) angegeben, - wobei diese Strahlung (9) in Form eines wenigstens teilweise fokussierten Eintrittsstrahls (11) von einer Strahlungsquelle (13) auf einen ausgewählten Probenbereich (6) gelenkt wird, - wobei das Verfahren eine Mehrzahl von aufeinanderfolgenden separaten Messschritten (m1,m2,mk) aufweist, - wobei in jedem dieser Messschritte (m1,m2,mk) die von dem ausgewählten Probenbereich (6) in Richtung eines Strahlungsdetektors (21) reflektierte Strahlungsmenge (19) gemessen wird, - wobei sich zumindest ein Teil der einzelnen Messschritte (m1,m2,mk) in Bezug auf die Fokustiefe (d) des Eintrittsstrahls (11) unterscheidet - und wobei sich außerdem zumindest ein Teil der einzelnen Messschritte (m1,m2,mk) in Bezug auf die Intensität des Eintrittsstrahls (11) unterscheidet. Weiterhin wird eine Vorrichtung zur Durchführung eines solchen Verfahrens angegeben sowie die Verwendung einer derartigen Vorrichtung zur Untersuchung einer medizinischen Gewebeprobe.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)