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1. (WO2018105570) DEFECT-REDUCED GRAPHENE CARBON MATERIAL AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
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Pub. No.:    WO/2018/105570    International Application No.:    PCT/JP2017/043528
Publication Date: 14.06.2018 International Filing Date: 04.12.2017
IPC:
C01B 32/192 (2017.01)
Applicants: NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION HOKKAIDO UNIVERSITY [JP/JP]; Kita 8-jyo Nishi 5-chome, Kita-ku, Sapporo-shi, Hokkaido 0600808 (JP)
Inventors: MUKAI Shin; (JP).
OGINO Isao; (JP).
IWAMURA Shinichiroh; (JP).
FUKAZAWA Go; (JP)
Agent: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2016-236019 05.12.2016 JP
Title (EN) DEFECT-REDUCED GRAPHENE CARBON MATERIAL AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) MATÉRIAU CARBONÉ DE GRAPHÈNE A DÉFAUTS RÉDUITS ET MÉTHODE DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) 低欠陥化グラフェン系炭素材料及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention pertains to a graphene carbon material having a BET specific surface area of 50 m2g-1 or more, a mesopore volume of 0.05 cm3g-1 or more, and a defect density of 2.5 × 1011 cm-2 or less. The C/O atomic ratio is, for example, within the range of 10-15000. The present invention pertains to a method for producing a defect-reduced graphene carbon material, the method comprising (1) a step for reducing the bulk density of oxidized graphene (e.g., to a bulk density of not less than 0.001 gcm-3 but less than 0.08 gcm-3), and (2) a step for subjecting the low-bulk-density oxidized graphene obtained in step (1) to a microwave irradiation process to obtain a graphene carbon material having a reduced defect density. The present invention provides a graphene carbon material having a relatively large mesopore volume, a relatively large specific surface area, and a reduced defect density, and provides a production method for the graphene carbon material.
(FR)La présente invention concerne un matériau carboné de graphène ayant une surface spécifique BET de 50 m2g-1, un volume de mésopores de 0,05 cm3g-1 ou plus, et une densité de défauts de 2,5 × 1011 cm-2 ou moins. Le rapport atomique C/O est, par exemple, dans la plage de 10 à 15000. La présente invention concerne une méthode de production d'un matériau carboné de graphène à défauts réduits, la méthode comprenant (1) une étape de réduction de la densité apparente de graphène oxydé (par exemple, à une densité apparente non inférieure à 0,001 gcm-3 mais inférieure à 0,08 gcm-3), et (2) une étape consistant à soumettre le graphène oxydé de faible densité apparente obtenu à l'étape (1) à un procédé d'irradiation par micro-ondes pour obtenir un matériau carboné de graphène ayant une densité de défauts réduite. La présente invention concerne un matériau carboné de graphène ayant un volume de mésopores relativement grand, une surface spécifique relativement grande, et une densité de défauts réduite, et concerne une méthode de production du matériau carboné de graphène.
(JA)本発明は、BET法比表面積が50m2-1以上であり、メソ孔容積が0.05cm3-1以上であり、かつ欠陥密度が2.5×1011cm-2以下である、グラフェン系炭素材料に関する。C/O原子比は例えば、10~15000の範囲である。本発明は、(1)酸化グラフェンを低かさ密度化(例えば、かさ密度0.001gcm-3以上、0.08gcm-3未満)する工程、及び(2)工程(1)で得られた低かさ密度化酸化グラフェンをマイクロ波照射処理して欠陥密度の低下したグラフェン系炭素材料を得る工程を含む低欠陥化グラフェン系炭素材料の製造方法に関する。本発明は、比較的大きなメソ孔容積、比較的大きな比表面積に加え、低い欠陥密度を兼ね備えたグラフェン系炭素材料及びその製造方法を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)