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1. (WO2018105404) REACTION PROCESSING DEVICE
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Pub. No.:    WO/2018/105404    International Application No.:    PCT/JP2017/042037
Publication Date: 14.06.2018 International Filing Date: 22.11.2017
IPC:
C12M 1/00 (2006.01), C12M 1/34 (2006.01), C12N 15/09 (2006.01), C12Q 1/68 (2018.01)
Applicants: NIPPON SHEET GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-27, Mita 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1086321 (JP)
Inventors: FUKUZAWA Takashi; (JP)
Agent: MORISHITA Sakaki; (JP)
Priority Data:
2016-236597 06.12.2016 JP
Title (EN) REACTION PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT RÉACTIONNEL
(JA) 反応処理装置
Abstract: front page image
(EN)A reaction processing device 100 comprises: a container placement unit 74 for placing a reaction processing container 10 comprising a channel formed on a substrate; a high-temperature heater 104 and an intermediate-temperature heater 106 for adjusting the temperature of the channel on the reaction processing container 10; a container alignment mechanism 80 for adjusting the position of the reaction processing container 10; and a case that has a case body 70 and a cover capable of opening and closing with respect to the case body 70 and that houses the container placement unit 74, the high-temperature heater 104, the intermediate-temperature heater 106, and the container alignment mechanism 80. The container alignment mechanism 80 positions the reaction processing container 10 so that same can be heated by the high-temperature heater 104 and the intermediate-temperature heater 106 in conjunction with the cover being changed from an open state to a closed state.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement réactionnel (100) comprenant : une unité de mise en place de récipient (74) pour mettre en place un récipient de traitement réactionnel (10) comprenant un canal formé sur un substrat ; un dispositif chauffant à haute température (104) et un dispositif chauffant à température intermédiaire (106) afin de régler la température du canal sur le récipient de traitement réactionnel (10) ; un mécanisme d’alignement de récipient (80) pour régler la position du récipient de traitement réactionnel (10) ; et un boîtier qui présente un corps de boîtier (70) et un couvercle apte à s’ouvrir et à se fermer par rapport au corps de boîtier (70) et qui loge l’unité de mise en place de récipient (74), le dispositif chauffant à haute température (104), le dispositif chauffant à température intermédiaire (106), et le mécanisme d’alignement de récipient (80). Le mécanisme d’alignement de récipient (80) positionne le récipient de traitement réactionnel (10) afin que ce dernier puisse être chauffé par le dispositif chauffant à haute température (104) et le dispositif chauffant à température intermédiaire (106) conjointement au couvercle qui passe d’un état ouvert à un état fermé.
(JA)反応処理装置100は、基板に形成された流路を備える反応処理容器10を設置するための容器設置部74と、反応処理容器10の流路の温度を調節するための高温用ヒータ104および中温用ヒータ106と、反応処理容器10の位置を調整するための容器アライメント機構80と、筐体本体70と、該筐体本体70に対して開閉可能な蓋部とを有し、容器設置部74、高温用ヒータ104、中温用ヒータ106および容器アライメント機構80を収容する筐体とを備える。容器アライメント機構80は、蓋部が開状態から閉状態にされるのと連動して、反応処理容器10を高温用ヒータ104および中温用ヒータ106で加熱可能となるよう位置合わせする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)