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1. (WO2018105229) LIQUID TANK FORMATION METHOD, MEASUREMENT DEVICE, AND ANALYSIS DEVICE
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Pub. No.:    WO/2018/105229    International Application No.:    PCT/JP2017/036944
Publication Date: 14.06.2018 International Filing Date: 12.10.2017
IPC:
G01N 27/04 (2006.01), G01N 27/00 (2006.01)
Applicants: HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventors: AOKI Mayu; (JP).
YANAGI Itaru; (JP).
HARADA Kunio; (JP).
TAKEDA Kenichi; (JP)
Agent: HIRAKI & ASSOCIATES; Atago Green Hills MORI Tower 32F, 5-1, Atago 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1056232 (JP)
Priority Data:
2016-237960 07.12.2016 JP
Title (EN) LIQUID TANK FORMATION METHOD, MEASUREMENT DEVICE, AND ANALYSIS DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE RÉSERVOIR DE LIQUIDE, DISPOSITIF DE MESURE ET DISPOSITIF D’ANALYSE
(JA) 液槽形成方法,測定装置及び分析デバイス
Abstract: front page image
(EN)The present invention simplifies solid-state nanopore sequencer arraying and includes a step for introducing a solution between a substrate with a membrane that is provided so as to cover an opening part and a substrate with an independent electrode, a step for adhering the substrate with the membrane and the substrate with the independent electrode through pressing such that there is a wall therebetween, and a step for forming a sealed liquid tank that is at least surrounded by the membrane and the wall through adhesion by pressing.
(FR)La présente invention simplifie la mise en réseau de séquenceur de nanopores à l’état solide et comprend une étape d’introduction d’une solution entre un substrat avec une membrane qui est disposée de façon à recouvrir une partie d’ouverture et un substrat avec une électrode indépendante, une étape pour coller le substrat à la membrane et le substrat à l’électrode indépendante par pressage de sorte qu’il existe une paroi entre ceux-ci, et une étape de formation d’un réservoir de liquide étanche qui est au moins entouré par la membrane et la paroi par collage par pression.
(JA)開口部を塞ぐようにメンブレンが設けられたメンブレン付き基板と,独立電極を有する独立電極付き基板の間に溶液を導入する工程と,間に隔壁を介してメンブレン付き基板と独立電極付き基板を圧着する工程と,圧着により,少なくともメンブレンと隔壁で囲まれた密封された液槽を形成する工程と,を含み,ソリッド式のナノポアシーケンサのアレイ化を簡便に行う。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)