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1. (WO2018104039) METHODS AND APPARATUS FOR PREDICTING PERFORMANCE OF A MEASUREMENT METHOD, MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS
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Pub. No.:    WO/2018/104039    International Application No.:    PCT/EP2017/079774
Publication Date: 14.06.2018 International Filing Date: 20.11.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G01N 21/47 (2006.01), G03F 1/44 (2012.01), G01N 21/95 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: JAK, Martin, Jacobus, Johan; (NL)
Agent: BROEKEN, Petrus; (NL)
Priority Data:
16203208.0 09.12.2016 EP
Title (EN) METHODS AND APPARATUS FOR PREDICTING PERFORMANCE OF A MEASUREMENT METHOD, MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREIL DE PRÉDICTION DES PERFORMANCES D'UN PROCÉDÉ DE MESURE, PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MESURE
Abstract: front page image
(EN)An overlay measurement (OV) is based on asymmetry in a diffraction spectrum of target structures formed by a lithographic process. Stack difference between target structures can be perceived as grating imbalance (GI), and the accuracy of the overlay measurement may be degraded. A method of predicting GI sensitivity is performed using first and second images (45+, 45-) of the target structure using opposite diffraction orders. Regions (ROI) of the same images are used to measure overlay. Multiple local measurements of symmetry (S) and asymmetry (A) of intensity between the opposite diffraction orders are made, each local measurement of symmetry and asymmetry corresponding to a particular location on the target structure. Based on a statistical analysis of the local measurements of symmetry and asymmetry values, a prediction of sensitivity to grating imbalance is obtained. This can be used to select better measurement recipes, and/or to correct errors caused by grating imbalance.
(FR)Une mesure de recouvrement (OV) est basée sur l'asymétrie d'un spectre de diffraction de structures cibles formées par un procédé lithographique. La différence d'empilement entre les structures cibles peut être perçue comme un déséquilibre de réseau (GI), et la précision de la mesure de recouvrement peut être dégradée. Un procédé de prédiction de la sensibilité GI est réalisé à l'aide de première et seconde images (45+, 45-) de la structure cible à l'aide d'ordres de diffraction opposés. Des régions (ROI) des mêmes images sont utilisées pour mesurer le recouvrement. De multiples mesures locales de symétrie (S) et d'asymétrie (A) d'intensité entre les ordres de diffraction opposés sont effectuées, chaque mesure locale de symétrie et d'asymétrie correspondant à un emplacement particulier sur la structure cible. Sur la base d'une analyse statistique des mesures locales de valeurs de symétrie et d'asymétrie, une prédiction de sensibilité au déséquilibre de réseau est obtenue. Ceci peut être utilisé pour sélectionner de meilleures recettes de mesure, et/ou pour corriger des erreurs provoquées par un déséquilibre de réseau.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)