WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2018103828) IMPLANTABLE ELECTRODE AND METHOD FOR MANUFACTURING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2018/103828    International Application No.:    PCT/EP2016/079942
Publication Date: 14.06.2018 International Filing Date: 06.12.2016
IPC:
A61N 1/05 (2006.01), A61B 5/04 (2006.01), H05K 1/02 (2006.01), H05K 1/18 (2006.01), H05K 3/46 (2006.01), H01L 23/498 (2006.01), A61B 5/0478 (2006.01), A61B 5/00 (2006.01)
Applicants: ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE (EPFL) [CH/CH]; EPFL Innovation Park J 1015 Lausanne (CH)
Inventors: GHEZZI, Diego; (CH).
AIRAGHI LECCARDI, Marta; (CH)
Agent: TER MEER STEINMEISTER & PARTNER PATENTANWAELTE MBB; Nymphenburgerstraße 4 80335 Munich (DE)
Priority Data:
Title (EN) IMPLANTABLE ELECTRODE AND METHOD FOR MANUFACTURING
(FR) ÉLECTRODE IMPLANTABLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a method for manufacturing an electrode, preferably an implantable electrode array comprising the following steps: Applying (101) a layer of electrically conducting material (4) above a substrate material (1) for forming the electrically conductive traces; applying (102) a layer of insulating material (6) directly on top of the layer of electrically conducting material (4) for covering the electrically conductive traces; patterning (103) the layer of insulating material (4) by partly exposing the layer of electrically conducting material (4) to form at least one contact area (8) on the layer of the electrically conducting material (4), wherein a mask for patterning the layer of insulating material (6) defines a region (9) in the at least one contact area (8) at which the insulating material (6) in the at least one contact area (8) remains; and partly applying (104) a top layer (13) of electrically conducting material (4) at the contact area (8) on top of the layer of insulating material (6) for coating the remaining insulating material (9) to lift the contact area (8a). The invention further relates to an electrode, preferably an implantable electrode array.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une électrode, de préférence un réseau d'électrodes implantable comprenant les étapes suivantes : appliquer (101) une couche de matériau électroconducteur (4) au-dessus d'un matériau de substrat (1) pour former les traces électroconductrices ; appliquer (102) une couche de matériau isolant (6) directement au-dessus de la couche de matériau électroconducteur (4) pour recouvrir les traces électroconductrices ; former un motif (103) sur la couche de matériau isolant (4) en exposant partiellement la couche de matériau électroconducteur (4) pour former au moins une zone de contact (8) sur la couche du matériau électroconducteur (4), un masque de formation de motif sur la couche de matériau isolant (6) définissant une région (9) dans ladite zone de contact (8) sur laquelle le matériau isolant (6) dans ladite au moins une zone de contact (8) reste ; et appliquer partiellement (104) une couche supérieure (13) de matériau électroconducteur (4) au niveau de la zone de contact (8) au-dessus de la couche de matériau isolant (6) pour revêtir le matériau isolant restant (9) afin d'élever la zone de contact (8a). L'invention concerne en outre une électrode, de préférence un réseau d'électrodes implantable.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)