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1. (WO2018103341) LIGHT COUPLED DEVICE, LIGHT SOURCE SYSTEM, AND ENDOSCOPE SYSTEM
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Pub. No.: WO/2018/103341 International Application No.: PCT/CN2017/093473
Publication Date: 14.06.2018 International Filing Date: 19.07.2017
IPC:
G02B 27/14 (2006.01)
Applicants: SONOSCAPE MEDICAL CORP.[CN/CN]; 4/F, 5/F, 8/F, 9/F & 10/F Yizhe Building, Yuquan Road, Nanshan Shenzhen, Guangdong 518051, CN
Inventors: ZHENG, Wei; CN
CHEN, Yunliang; CN
SHI, Yan; CN
QIU, Jianjun; CN
Agent: SHENPAT INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 1521 West Block, Guomao Building Shenzhen, Guangdong 518014, CN
Priority Data:
201611129836.709.12.2016CN
Title (EN) LIGHT COUPLED DEVICE, LIGHT SOURCE SYSTEM, AND ENDOSCOPE SYSTEM
(FR) DISPOSITIF À TRANSFERT DE LUMIÈRE, SYSTÈME DE SOURCE DE LUMIÈRE ET SYSTÈME D'ENDOSCOPE
(ZH) 一种光耦合装置、光源系统及内窥镜系统
Abstract: front page image
(EN) Provided are a light coupled device (100), a light source system, and an endoscope system. The light coupled device (100) comprises a substrate (101). The substrate (101) has a through hole (102) and a reflection structure (103) surrounding the through hole (102). The through hole (102) enables a light beam to penetrate the substrate (101). The reflection structure (103) can reflect the light beam. The light beam passing through the light coupled device (100) does not attenuate, and thus the light coupled device (100) has a light transmittance of up to 100% compared with existing coupled devices. Moreover, the present invention eliminates a step of arranging an anti-reflection coating at a light-entering surface and a light-exiting surface of the substrate (101), thereby simplifying a process, and reducing costs. Furthermore, the light coupled device (100) does not need a dedicated tool to shield an optically transmissive structure in a process of forming a reflection coating, thereby further reducing costs while preventing formation of a coating transition zone, and ensuring precise sizes of the optically transmissive structure and the reflection structure (103).
(FR) L'invention concerne un dispositif à transfert de lumière (100), un système de source de lumière et un système d'endoscope. Le dispositif à transfert de lumière comprend un substrat (101). Le substrat (101) comporte un trou traversant (102) et une structure de réflexion (103) entourant le trou traversant (102). Le trou traversant (102) permet à un faisceau lumineux de pénétrer dans le substrat (101). La structure de réflexion (103) peut réfléchir le faisceau lumineux. Le faisceau lumineux traversant le dispositif à transfert de lumière (100) n'atténue pas, et ainsi le dispositif couplé à la lumière (100) a un facteur de transmission de la lumière allant jusqu'à 100 % par comparaison avec les dispositifs de transfert existants. De plus, la présente invention élimine une étape d'agencement d'un revêtement antireflet au niveau d'une surface d'entrée de lumière et d'une surface de sortie de lumière du substrat, ce qui simplifie un processus, et réduit les coûts. En outre, le dispositif couplé à la lumière (100) n'a pas besoin d'un outil dédié pour protéger une structure optiquement transmissive dans un procédé de formation d'un revêtement réfléchissant, ce qui permet de réduire davantage les coûts tout en empêchant la formation d'une zone de transition de revêtement, et d'assurer des tailles précises de la structure optiquement transmissive et de la structure de réflexion (103).
(ZH) 一种光耦合装置(100)、光源系统及内窥镜系统,其中光耦合装置(100)包括基板(101),基板(101)上具有通孔(102),以及围绕通孔(102)设置的反射结构(103),其中,通孔(102)可供光束穿透基板(101),反射结构(103)可对光束进行反射。光束在透过光耦合装置(100)时不会发生任何衰减,透射率相对于现有技术中的耦合装置可以提升到100%,同时也可以省去在基板(101)入射面和出射面设置防反射涂层的步骤,从而可以简化工艺、降低成本;此外,光耦合装置(100)在镀反射膜时无需专用治具对透射结构进行遮挡,在进一步降低成本的同时,也可以避免镀膜过渡区域的产生,保证透射结构与反射结构(103)尺寸的精确性。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)