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1. (WO2018102055) ADVANCED IN-SITU PARTICLE DETECTION SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS
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Pub. No.: WO/2018/102055 International Application No.: PCT/US2017/058352
Publication Date: 07.06.2018 International Filing Date: 25.10.2017
IPC:
H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/683 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67
Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67
Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
683
for supporting or gripping
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.[US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventors: ZHANG, Lin; US
LU, Xuesong; US
LE, Andrew V.; US
JI, Fa; US
OH, Jang Seok; US
SMITH, Patrick L.; US
JAFARI, Shawyon; US
ANTONIO, Ralph Peter; US
Agent: PATTERSON, B. Todd; US
DOUGHERTY, Chad M.; US
Priority Data:
62/429,50802.12.2016US
Title (EN) ADVANCED IN-SITU PARTICLE DETECTION SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS
(FR) SYSTÈME DE DÉTECTION DE PARTICULES IN SITU ÉVOLUÉ DE SYSTÈMES DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR
Abstract:
(EN) An FI having an in-situ particle detector and a method for particle detection therein are provided. In one aspect, the FI includes a fan, a substrate support, a particle detector, and an exhaust outlet. The fan, substrate support, and particle detector are arranged such that, in operation, the fan directs air towards the exhaust outlet and over a substrate on the substrate support to create laminar flow. The particle detector, positioned downstream from the substrate support and upstream from the exhaust outlet, analyzes the air and detects particle concentration before the particles are exhausted. The collected particle detection data may be combined with data from other sensors in the FI and used to identify the source of particle contamination. The particle detector may also be incorporated into other system components, including but not limited to, a load-lock or buffer chamber to detect particle concentration therein.
(FR) L'invention concerne un FI comportant un détecteur de particules in-situ et un procédé de détection de particules en son sein. Selon un aspect, le FI comprend un ventilateur, un support de substrat, un détecteur de particules et une sortie d'échappement. Le ventilateur, le support de substrat et le détecteur de particules sont disposés de sorte que, en fonctionnement, le ventilateur dirige de l'air vers la sortie d'échappement et sur un substrat situé sur le support de substrat de façon à créer un écoulement laminaire. Le détecteur de particules, placé en aval du support de substrat et en amont de la sortie d'échappement, analyse l'air et détecte la concentration de particules avant que les particules ne soient évacuées par la sortie d'échappement. Les données de détection de particules collectées peuvent être combinées avec des données provenant d'autres capteurs du FI et utilisées pour identifier la source de contamination de particules. Le détecteur de particules peut également être incorporé dans d'autres composants de système, notamment, mais sans y être limité, dans un sas de chargement ou dans une chambre tampon pour y détecter une concentration de particules.
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African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)