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1. (WO2018101352) POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN USING SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN
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Pub. No.:    WO/2018/101352    International Application No.:    PCT/JP2017/042876
Publication Date: 07.06.2018 International Filing Date: 29.11.2017
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Applicants: ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1160012 (JP)
Inventors: MIHARA Taiki; (JP).
MIYAKE Junya; (JP).
SATO Naomi; (JP)
Agent: HONDA Ichiro; (JP)
Priority Data:
2016-233519 30.11.2016 JP
Title (EN) POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN USING SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE DE TYPE POSITIF, MOTIF METTANT EN ŒUVRE CELLE-CI, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF
(JA) ポジ型感光性組成物、それを用いたパターンおよびパターンの製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are a positive photosensitive composition that excels in sensitivity at hardening time, a pattern using same, and a method of manufacturing the pattern. Included are a sulfonic acid derivative compound (A) expressed by general formula (I) (in general formula (I), X1 represents a C1-14 linear or branched alkyl group, etc., R1 represents a group represented by an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, an arylalkyl group, an aryl group substituted by an acyl group, an alicyclic hydrocarbon group, etc., and the aliphatic hydrocarbon group, the aryl group and the arylalkyl group may not have a substituent or may be substituted by a halogen atom, etc.), and a high molecular compound (B) for which is indispensable a constitutional unit expressed by general formula (III) (in the formula, R5 is a hydrogen atom or a methyl group, R6 represents a C1-4 alkyl group, etc., f is a numeral in the range 0-4, and the * means that a bond with an adjacent group is formed in the * part).
(FR)L’invention fournit une composition photosensible de type positif d’une excellente sensibilité lors de son durcissement, un motif mettant en œuvre celle-ci, et un procédé de fabrication de motif. La composition de l’invention comprend un composé de dérivé d’acide sulfonique (A) représenté par la formule générale (I) (dans la formule générale (I), X représente un groupe alkyle à chaîne droite ou à chaîne ramifiée de 1 à 14 atomes de carbone, R représente un groupe tel qu’un groupe hydrocarbure aliphatique, un groupe aryle, un groupe arylalkyle, un groupe aryle substitué par un groupe acyle, un groupe hydrocarbure alicyclique, ou similaire, et le groupe hydrocarbure aliphatique, le groupe aryle et le groupe arylalkyle ne présentent pas de substituant, ou peuvent être substitués par un atome d’halogène, ou similaire.), et un composé polymère (B) essentiellement constitué d’une unité structurale représentée par la formule générale (III) (dans la formule, R représente un atome d’hydrogène ou un groupe méthyl, R représente un groupe alkyle, ou similaire, de 1 à 4 atomes de carbone, f représente un nombre compris entre 0 et 4, et * signifie une liaison avec un groupe adjacent dans une portion *.).
(JA)硬化時における感度に優れたポジ型感光性組成物、それを用いたパターンおよびパターンの製造方法を提供する。 下記一般式(I)、 (一般式(I)中、Xは炭素原子数1~14の直鎖または分岐鎖アルキル基等を表し、Rは、脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基、アシル基で置換されたアリール基、脂環式炭化水素基等で表される基を表し、脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基は、置換基を有しないか、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。)で表されるスルホン酸誘導体化合物(A)、および下記一般式(III)、 (式中、Rは、水素原子またはメチル基を表し、Rは、炭素原子数1~4のアルキル基等であり、fは、0~4の数であり、*は、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)で表される構成単位を必須とする高分子化合物(B)を含有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)