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1. (WO2018101339) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ONIUM SALT COMPOUND, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
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Pub. No.: WO/2018/101339 International Application No.: PCT/JP2017/042837
Publication Date: 07.06.2018 International Filing Date: 29.11.2017
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,C07C 309/17 (2006.01) ,C07C 381/12 (2006.01) ,C09K 3/00 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION[JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
Inventors: NISHIKORI,Katsuaki; JP
Agent: UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; First Shin-Osaka MT Bldg. 2nd Floor, 5-13-9 Nishinakajima, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011, JP
Priority Data:
2016-23390701.12.2016JP
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ONIUM SALT COMPOUND, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, COMPOSÉ SEL D'ONIUM ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 感放射線性樹脂組成物、オニウム塩化合物及びレジストパターンの形成方法
Abstract: front page image
(EN) Provided are a radiation-sensitive resin composition including an acid generating agent that gives an acid having sufficient acid strength even when no fluorine atoms are present at the proximal carbon of a sulfonic acid group, an onium salt compound, and a method of forming a resist pattern. A resin including a constituent unit having an acid-dissociable group, an onium salt compound expressed by formula (1), and a radiation-sensitive resin composition including a solvent. (In formula (1), R1 is a hydrogen atom or a univalent group (except the case where R1 is a fluoro group or a univalent organic group including a fluorine atom)).
(FR) L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement comprenant un agent de génération d'acide qui donne un acide présentant une résistance à l'acide suffisante même lorsqu'aucun atome de fluor n'est présent au niveau du carbone proximal d'un groupe acide sulfonique, un composé sel d'onium, et un procédé de formation d'un motif de réserve. La résine comprend une unité constitutive comportant un groupe dissociable par un acide, un composé sel d'onium exprimé par la formule (1), et une composition de résine sensible au rayonnement comprenant un solvant. (Dans la formule (1), R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe univalent (à l'exception du cas où R1 représente un groupe fluoro ou un groupe organique univalent comprenant un atome de fluor)).
(JA) スルホン酸基の近位炭素上にフッ素原子が存在しなくても十分な酸強度を有する酸を与える酸発生剤を含む感放射線性樹脂組成物、オニウム塩化合物及びレジストパターンの形成方法を提供する。酸解離性基を有する構造単位を含む樹脂、下記式(1)で表されるオニウム塩化合物、及び溶剤を含む感放射線性樹脂組成物。 (式(1)中、Rは、水素原子又は1価の基である(ただし、Rがフルオロ基、又はフッ素原子を含む1価の有機基である場合を除く。)。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)