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1. (WO2018101126) PLASMA GENERATOR
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Pub. No.: WO/2018/101126 International Application No.: PCT/JP2017/041842
Publication Date: 07.06.2018 International Filing Date: 21.11.2017
IPC:
H05H 1/24 (2006.01) ,H01L 41/107 (2006.01) ,H02M 7/48 (2007.01)
Applicants: TDK CORPORATION[JP/JP]; 3-9-1, Shibaura, Minato-ku, Tokyo 1080023, JP
Inventors: SHIOHARA Takahiro; JP
KAMONO Takeshi; JP
Priority Data:
2016-23484602.12.2016JP
Title (EN) PLASMA GENERATOR
(FR) GÉNÉRATEUR DE PLASMA
(JA) プラズマ発生器
Abstract: front page image
(EN) Provided is a plasma generator that can adjust the plasma generation amount, with a simple structure. The plasma generator is provided with a control circuit that controls the frequency of alternating current power supplied to a piezoelectric transformer, and a control signal generating circuit that supplies a control signal to the control circuit, the plasma generator being configured so as to be able to appropriately adjust the control signal outputted from the control signal generating circuit. The control circuit controls the frequency of the alternating current power such that a detection value approaches a corresponding target value that is set on the basis of the control signal supplied from the control signal generating circuit.
(FR) L'invention concerne un générateur de plasma qui peut ajuster la quantité de génération de plasma, avec une structure simple. Le générateur de plasma est pourvu d'un circuit de commande qui commande la fréquence d'une alimentation en courant alternatif fournie à un transformateur piézoélectrique, et d'un circuit de génération de signal de commande qui fournit un signal de commande au circuit de commande, le générateur de plasma étant configuré de façon à pouvoir ajuster de manière appropriée le signal de commande émis par le circuit de génération de signal de commande. Le circuit de commande commande la fréquence de l'alimentation en courant alternatif de telle sorte qu'une valeur de détection s'approche d'une valeur cible correspondante qui est réglée sur la base du signal de commande émis par le circuit de génération de signal de commande.
(JA) 簡易な構成でプラズマの発生量を調整することができるプラズマ発生器を提供する。 圧電トランスに供給される交流電力の周波数を制御する制御回路と、制御回路に制御信号を与える制御信号発生回路を備え、制御信号発生回路から出力される制御信号を適宜調整できるように構成されている。制御回路は、制御信号発生回路から与えられる制御信号に基づいて設定された目標値に、それに対応する検出値を近づけるように交流電力の周波数を制御する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)