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1. (WO2018100809) FACILITY FOR DISCHARGING LEACHING RESIDUE SLURRY
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Pub. No.:    WO/2018/100809    International Application No.:    PCT/JP2017/029605
Publication Date: 07.06.2018 International Filing Date: 18.08.2017
IPC:
E02B 7/20 (2006.01), C02F 11/00 (2006.01), C22B 7/00 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO METAL MINING CO.,LTD. [JP/JP]; 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716 (JP)
Inventors: HATTORI Yasumasa; (JP).
SUZUKI Hitoshi; (JP).
IIDA Yoshitaka; (JP).
KAWAGUCHI Yoichi; (JP)
Agent: NAKAI Hiroshi; (JP).
OKAMOTO Shigeki; (JP)
Priority Data:
2016-233825 01.12.2016 JP
Title (EN) FACILITY FOR DISCHARGING LEACHING RESIDUE SLURRY
(FR) INSTALLATION POUR ÉVACUER UNE BOUILLIE DE RÉSIDUS DE LIXIVIATION
(JA) 浸出残渣スラリーの排出施設
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a facility for discharging a leaching residue slurry in which the whole of an entire retention pond can be effectively utilized for storage of a leaching residue slurry. [Solution] Equipment for discharging a leaching residue slurry S into a retention pond P, wherein the equipment is provided with: a releasing unit 10 for releasing the leaching residue slurry S, the releasing unit 10 being provided with a floating body 11 floating on the water surface F of the retention pond P; and a feed unit 2 for feeding the leaching residue slurry S to the releasing unit 10. Because the floating body 11 causes the releasing unit 10 to float on the water surface F of the retention pond P, moving the releasing unit 10 on the water surface F of the retention pond P makes it possible to position the releasing unit 10 at the desired position on the retention pond P. The retention pond P can therefore be effectively utilized to the center part thereof as a region for storing the leaching residue slurry S.
(FR)Le problème à résoudre dans le cadre de la présente invention est de proposer une installation pour évacuer une bouillie de résidus de lixiviation dans laquelle la totalité d'un bassin de rétention peut être efficacement utilisée pour le stockage d'une bouillie de résidus de lixiviation. La solution proposée consiste en un équipement pour évacuer une bouillie de résidus de lixiviation (S) dans un bassin de rétention (P), l'équipement étant pourvu : d'une unité de libération (10) pour libérer la bouillie de résidus de lixiviation (S), l'unité de libération (10) étant pourvue d'un corps flottant (11) qui flotte sur la surface d'eau (F) du bassin de rétention (P) ; et d'une unité d'alimentation (2) pour réaliser l'alimentation de la bouillie de résidus de lixiviation (S) à l'unité de libération (10). Du fait que le corps flottant (11) fait en sorte que l'unité de libération (10) flotte sur la surface d'eau (F) du bassin de rétention (P), le déplacement de l'unité de libération (10) sur la surface d'eau (F) du bassin de rétention (P) permet de positionner l'unité de libération (10) à la position souhaitée sur le bassin de rétention (P). Le bassin de rétention (P) peut donc être efficacement utilisé, dans sa partie centrale, en tant que région pour stocker la bouillie de résidus de lixiviation (S).
(JA)【課題】貯留用池全体を浸出残渣スラリーの貯蔵に有効活用できる浸出残渣スラリーの排出施設を提供する。 【解決手段】浸出残渣スラリーSを貯留用池Pに排出する設備であって、貯留用池Pの水面Fに浮遊される浮遊体11を備えた、浸出残渣スラリーSを吐出する吐出部10と、吐出部10に対して浸出残渣スラリーSを供給する供給部2と、を備えている。 浮遊体11によって吐出部10は貯留用池Pの水面Fに浮かんでいるので、貯留用池Pの水面F上で吐出部10を移動させれば、吐出部10を貯留用池Pの所望の位置に配置することができる。したがって、貯留用池Pの中央部まで、浸出残渣スラリーSを貯留する領域として有効に活用することができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)