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1. (WO2018099866) SPECTRAL SELECTION COMPONENT FOR XUV RADIATION
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Pub. No.: WO/2018/099866 International Application No.: PCT/EP2017/080549
Publication Date: 07.06.2018 International Filing Date: 27.11.2017
IPC:
G02B 5/08 (2006.01) ,G21K 1/06 (2006.01) ,G02B 5/26 (2006.01)
Applicants: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE[FR/FR]; 3, rue Michel Ange 75016 Paris, FR
Inventors: DELMOTTE, Franck; FR
DEHLINGER, Maël; FR
Agent: JOUBERT, Cécile; Marks & Clerk France Immeuble "Visium" 22, avenue Aristide Briand 94117 Arcueil Cedex, FR
Priority Data:
166163629.11.2016FR
Title (EN) SPECTRAL SELECTION COMPONENT FOR XUV RADIATION
(FR) COMPOSANT DE SELECTION SPECTRALE POUR RADIATIONS XUV
Abstract: front page image
(EN) According to one aspect, the present description relates to a spectral selection component (100) for XUV radiation, comprising a first multilayer mirror (10) for receiving an XUV radiation beam (I1) along an input axis located in a first plane of incidence and a second multilayer mirror (20) for receiving, in a second plane of incidence, a beam of XUV radiation (I2) reflected by the first mirror in order to transmit them to an output axis of the spectral selection component. One of the first and second mirrors has a first spectral high-pass energy response, with one flank for low energies with a steepness greater than 0.1 eV-1 and a rejection of low energies greater than 20 while the other mirror has a second spectral low-pass energy response, with a flank for high energies with a steepness greater than 0.1 eV-1 and a rejection of high energies greater than 20. Furthermore, the first and second mirrors have only a partial overlap of their spectral energy responses.
(FR) Selon un aspect, la présente description concerne un composant de sélection spectrale (100) pour radiations XUV comprenant un premier miroir multicouche (10) destiné à recevoir un faisceau de radiations XUV (I1) selon un axe d'entrée situé dans un premier plan d'incidence et un deuxième miroir multicouche (20) destiné à recevoir dans un deuxième plan d'incidence un faisceau de radiations XUV (I2) réfléchi par le premier miroir pour les renvoyer vers un axe de sortie du composant de sélection spectrale. L'un des premier et deuxième miroirs présente une première réponse spectrale en énergie passe-haut, avec un flanc du côté des énergies basses de raideur supérieure à 0,1 eV-1 et une réjection des basses énergies plus grande que 20 tandis que l'autre miroir présente une deuxième réponse spectrale en énergie passe-bas, avec un flanc du côté des énergies hautes de raideur supérieure à 0,1 eV-1 et une réjection des hautes énergies plus grande que 20. Par ailleurs, les premier et deuxième miroirs présentent un recouvrement seulement partiel de leurs réponses spectrales en énergie.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)