WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Options
Query Language
Stem
Sort by:
List Length
Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2018099854) METHOD FOR INSPECTING A SPECIMEN AND CHARGED PARTICLE MULTI-BEAM DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/099854 International Application No.: PCT/EP2017/080506
Publication Date: 07.06.2018 International Filing Date: 27.11.2017
IPC:
H01J 37/28 (2006.01) ,H01J 37/153 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26
Electron or ion microscopes; Electron- or ion-diffraction tubes
28
with scanning beams
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
153
Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
Applicants: APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD.[IL/IL]; 9 Oppenheimer St. 7670109 Rehovot, IL
TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT[NL/NL]; Stevinweg 1 2628 CN Delft, NL
Inventors: FROSIEN, Jürgen; DE
KRUIT, Pieter; NL
Agent: ZIMMERMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Josephspitalstr. 15 80331 München, DE
Priority Data:
15/366,48201.12.2016US
Title (EN) METHOD FOR INSPECTING A SPECIMEN AND CHARGED PARTICLE MULTI-BEAM DEVICE
(FR) MÉTHODE D'INSPECTION D'UN ÉCHANTILLON ET DISPOSITIF À FAISCEAUX MULTIPLES DE PARTICULES CHARGÉES
Abstract:
(EN) A method of inspecting a specimen with an array of primary charged particle beamlets in a charged particle beam device is described. The method includes generating a primary charged particle beam with a charged particle beam emitter; illuminating a multi-aperture lens plate with the primary charged particle beam to generate the array of primary charged particle beamlets; correcting a field curvature with at least two electrodes, wherein the at least two electrodes include aperture openings; directing the primary charged particle beamlets with a lens towards an objective lens; guiding the primary charged particle beamlets through a deflector array arranged within the lens; wherein the combined action of the lens and the deflector array directs the primary charged particle beamlets through a coma free point of the objective lens; and focusing the primary charged particle beamlets on separate locations on the specimen with the objective lens.
(FR) L'invention concerne une méthode d'inspection d'un échantillon au moyen d'un réseau de petits faisceaux de particules chargées primaires d'un dispositif à faisceau de particules chargées. La méthode consiste à générer un faisceau de particules chargées primaire au moyen d'un émetteur de faisceau de particules chargées ; éclairer une plaque de lentille à ouvertures multiples avec le faisceau de particules chargées primaire pour générer le réseau de petits faisceaux de particules chargées primaires ; corriger une courbure de champ à l'aide d'au moins deux électrodes, lesdites deux électrodes comprenant des ouvertures d'ouverture ; diriger les petits faisceaux de particules chargées primaires au moyen d'une lentille vers une lentille d'objectif ; guider les petits faisceaux de particules chargées primaires à travers un réseau de déflecteurs agencé à l'intérieur de la lentille ; l'action combinée de la lentille et du réseau de déflecteurs dirigeant les petits faisceaux de particules chargées primaires à travers un point sans coma de la lentille d'objectif ; et focaliser les petits faisceaux de particules chargées primaires sur des positions distinctes de l'échantillon à l'aide de la lentille d'objectif.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)