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1. (WO2018099413) SYSTEM FOR FORMING SECURITY PATTERN USING OPTICAL AND MAGNETIC FIELDS
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Pub. No.:    WO/2018/099413    International Application No.:    PCT/CN2017/113730
Publication Date: 07.06.2018 International Filing Date: 30.11.2017
IPC:
B41F 17/00 (2006.01), B41M 3/14 (2006.01), B41M 5/382 (2006.01)
Applicants: REN, Lei [CN/CN]; (CN)
Inventors: REN, Lei; (CN)
Agent: GUANGZHOU PANYU RONDA PATENT AGENCY; Room B, Floor 14, Jinan Building No. 300, Dong Feng Zhong Road, Yuexiu District Guangzhou, Guangdong 510030 (CN)
Priority Data:
201611095482.9 01.12.2016 CN
201621314510.7 01.12.2016 CN
201710667828.6 07.08.2017 CN
201720982564.9 07.08.2017 CN
Title (EN) SYSTEM FOR FORMING SECURITY PATTERN USING OPTICAL AND MAGNETIC FIELDS
(FR) SYSTÈME DE FORMATION D'UN MOTIF DE SÉCURITÉ À L'AIDE DE CHAMPS OPTIQUES ET MAGNÉTIQUES
(ZH) 光磁双场形成安全图案的系统
Abstract: front page image
(EN)A system for forming a security pattern using optical and magnetic fields, comprises: a printing substrate (6) printed with an inducible ink pattern on a surface thereof and at least one set of security pattern forming units for the printing substrate (6) to sequentially pass therethrough, each of the security pattern forming units comprises: a magnetic field and light source that can both act on the surface of the printing substrate (6), such that after the printing substrate (6) passes through the security pattern forming units, the inducible ink pattern on the surface thereof presents both effects resulting from the optical field and magnetic field. The formed security pattern can also be variable. The core technical element for forming a security pattern using optical and magnetic fields is the combination of a printing pattern, a magnetic field pattern and an optical field pattern acting together on a printing substrate, making the formed anti-counterfeiting pattern more complicated and rich. In practical applications, the number of different forms of optical roller patterns and magnetic field patterns can be increased to form a more complicated anti-counterfeiting pattern that is more difficult to replicate.
(FR)La présente invention concerne un système de formation d'un motif de sécurité à l'aide de champs optiques et magnétiques comprenant : un substrat d'impression (6) sur une surface duquel un motif d'encre inductible est imprimé, et au moins un ensemble d'unités de formation de motif de sécurité au travers duquel le substrat d'impression (6) doit passer séquentiellement, chacune des unités de formation de motif de sécurité comprenant : une source de champ magnétique et une source de lumière qui peuvent toutes les deux agir sur la surface du substrat d'impression (6), de telle sorte que, après que le substrat d'impression (6) passe à travers les unités de formation de motif de sécurité, le motif d'encre inductible sur la surface de celui-ci présente les deux effets résultant du champ optique et du champ magnétique. Le motif de sécurité formé peut également être variable. L'élément technique central pour former un motif de sécurité à l'aide de champs optiques et magnétiques est la combinaison d'un motif d'impression, d'un motif de champ magnétique et d'un motif de champ optique agissant ensemble sur un substrat d'impression, rendant le motif anti-contrefaçon formé plus compliqué et riche. Dans des applications pratiques, le nombre de formes différentes de motifs de rouleau optique et de motifs de champ magnétique peut être augmenté pour former un motif anti-contrefaçon plus compliqué qui est plus difficile à reproduire.
(ZH)一种光磁双场形成安全图案的系统,其包括:表面印刷有可诱导的油墨图案的印刷基材(6)和用于供印刷基材(6)顺序经过的至少一套安全图案形成单元,每套安全图案形成单元包括:均可作用于印刷基材(6)表面的磁场和光源,使得印刷基材(6)经过安全图案形成单元后,其表面的可诱导的油墨图案呈现光场和磁场双重作用后的效果。所形成的安全图案还可以是可变的。使用光磁双场形成安全图案的核心技术元素是印刷图案、磁版图案和光场图案三者共同作用于印刷基材上;从形成防伪图案的复杂程度上更加复杂,更加丰富;在实际的应用中还可以增加不同形式的光辊图案数量和磁场图案的数量,形成更为复杂的防伪图案,达到更加难以复制的目的。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)