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1. (WO2018099112) FLUORINE-CONTAINING CLEANING LIQUID
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Pub. No.: WO/2018/099112 International Application No.: PCT/CN2017/094364
Publication Date: 07.06.2018 International Filing Date: 25.07.2017
IPC:
G03F 7/42 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26
Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
42
Stripping or agents therefor
Applicants:
安集微电子科技(上海)股份有限公司 ANJI MICROELECTRONICS TECHNOLOGY (SHANGHAI) CO., LTD. [CN/CN]; 中国上海市 浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层 T6-9, Shanghai Jinqiao Export Processing Zone (South Zone) No. 5001, Huadong Road, Pudong New Area Shanghai 201201, CN
Inventors:
何春阳 HE, Chunyang; CN
赵鹏 ZHAO, Peng; CN
刘兵 LIU, Bing; CN
Agent:
北京大成律师事务所 BEIJING DACHENG LAW OFFICES, LLP; 中国上海市 浦东新区银城中路501号上海中心15/16层 15th/16th Floor, Shanghai Tower 501 Yincheng Road (M), Pudong New Area Shanghai 200120, CN
Priority Data:
201611070472.X29.11.2016CN
Title (EN) FLUORINE-CONTAINING CLEANING LIQUID
(FR) LIQUIDE DE NETTOYAGE CONTENANT DU FLUOR
(ZH) 一种含氟清洗液
Abstract:
(EN) A fluorine-containing cleaning liquid comprising a fluoride, an organic amine, an organic solvent, a hydrated hydrazine, and a derivative thereof. The fluorine-containing cleaning liquid has powerful cleaning capability, effectively removes plasma etching residues in a semiconductor fabrication process, particularly residues after ashing in a copper mask process, provides a reduced corrosion rate with respect to nonmetal materials (such as silicon oxynitride and a low dielectric material) and metal materials (such as Cu) in high-rotational speed single-chip microcomputer cleaning, is applicable in a batch immersion and batch rotating spray cleaning approach, is specifically applicable in a high rotational speed single-chip rotating cleaning approach, solves the shortcoming of copper corrosion inhibition of a conventional cleaning liquid, and has great application prospects in the microelectronics field of semiconductor chip cleaning.
(FR) La présente invention concerne un liquide de nettoyage contenant du fluor qui comprend un fluorure, une amine organique, un solvant organique, une hydrazine hydratée, et un dérivé de cette dernière. Le liquide de nettoyage contenant du fluor présente une capacité de nettoyage puissante, élimine efficacement les résidus de gravure au plasma dans un processus de fabrication de semi-conducteur, en particulier des résidus après calcination dans un processus de masque de cuivre, fournit un taux de corrosion réduit par rapport à des matériaux non métalliques (tels que l'oxynitrure de silicium et un matériau à faible constante diélectrique) et des matériaux métalliques (tels que Cu) dans un nettoyage de micro-ordinateur à puce unique à vitesse de rotation élevée, est applicable dans une approche de nettoyage par immersion par lots et par pulvérisation rotative par lots, est spécifiquement applicable dans une approche de nettoyage rotatif à une seule puce à vitesse de rotation élevée, résout l'inconvénient de l'inhibition de la corrosion du cuivre d'un liquide de nettoyage classique, et présente de grandes perspectives d'application dans le domaine de la micro-électronique de nettoyage de puce de semi-conducteur.
(ZH) 含氟清洗液含有氟化物、有机胺、有机溶剂、水和肼及其衍生物,所述含氟清洗液清洗能力强,可有效去除半导体制程过程中等离子刻蚀残留物,尤其是在铜马士革工艺中灰化后的残留物,并且在高转速单片机清洗中对非金属材料(如氮氧化硅和低介质材料)和金属材料(如Cu)等有较小的腐蚀速率,适用于批量浸泡式、批量旋转喷雾式清洗方式,尤其适用于高转速单片旋转式的清洗方式,克服了传统清洗液铜腐蚀抑制的缺陷,在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)