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1. (WO2018099022) OFFLINE TEMPERABLE HIGH HEAT-REFLECTIVE LIGHT-REFLECTIVE COATED GLASS WITH NO LIGHT TRANSMITTANCE AND PREPARATION METHOD THEREFOR
Document

说明书

发明名称 0001   0002   0003   0004   0005   0006   0007   0008   0009   0010   0011   0012   0013   0014   0015   0016   0017   0018   0019   0020   0021   0022   0023   0024   0025   0026   0027   0028   0029   0030   0031   0032   0033   0034   0035   0036   0037   0038   0039   0040   0041  

权利要求书

1   2   3   4   5   6   7   8   9  

说明书

发明名称 : 一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法

技术领域

[0001]
本发明涉及玻璃及其制备领域,尤其涉及一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

[0002]
现有普通离线热反射镀膜玻璃由于膜系配置均采用金属材料或金属氧化物材料,成本较高。离线可钢零透高反热反射镀膜玻璃,直接采用硅Si膜层,目前硅Si的成本很低,而且硅Si的化学性质不活泼,有较好的稳定性,针孔密度非常低。磁控溅射沉积的硅Si膜层致密、平整且硬度很高,对可动离子有非常强的阻挡能力,在1200℃时不发生氧化,有较好的抗蚀性,所以,使用硅Si膜层生产的离线可钢零透高反热反射镀膜玻璃,可以在降低成本的同时实现离线可钢零透高反热反射镀膜玻璃耐高温的性能,从而实现远程异地化的切割、磨边、钢化、中空等后续加工,且透光可以做到接近零,玻璃面反射在35左右。
[0003]
发明内容
[0004]
发明目的:为了克服现有技术中存在的离线可钢化镀膜玻璃成本较高的问题,本发明提出了一种大幅度降低离线可钢化镀膜玻璃成本,且具有零透光、高反热高反射性能的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法。
[0005]
技术方案:为了解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案为:一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃,包括玻璃基片和镀膜层,所述镀膜层设于玻璃基片上,所述镀膜层的组成原料仅为硅。
[0006]
为了获得最佳的性能,所述玻璃基片的厚度为3-15mm。
[0007]
更进一步的,所述玻璃基片的厚度为6mm。
[0008]
作为本发明的进一步改进,所述镀膜层硅的厚度为120-140nm。
[0009]
更进一步的,所述镀膜层硅的厚度为130nm。
[0010]
本发明还提出了上述离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法,包括如下步骤:
[0011]
(1)选择3-15mm厚度的玻璃基片,按预定尺寸切割成玻璃片,用清洗机对玻璃片进行清洗;
[0012]
(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10 -3Pa,线速度设置为2m/min;
[0013]
(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜,设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率 为350-380KW,在玻璃基片上溅射一层120-140nm的硅,即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。
[0014]
更为优选的,所述步骤(1)中玻璃基片的厚度选择6mm。
[0015]
更进一步的,所述步骤(3)中高真空磁控溅射镀膜设备的功率为370KW。
[0016]
更为优选的,所述步骤(3)中在玻璃基片上溅射的硅的厚度为130nm。
[0017]
有益效果:本发明提供的一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法,包括玻璃基片和镀膜层,其中镀膜层直接采用扩散系数很低的硅作为材料,且硅的价格较低,本发明不仅能够在不影响热反射效果的同时大大降低生产成本,也能够使膜层在钢化炉中进行热处理而不使膜层破坏,且保持了原有热工性能,同时将原片也进行了钢化处理,而且生产出来的镀膜玻璃具有很好的隔热功效,同时也能实现异地化后续深加工,且透光可以做到接近零,玻璃面反射在35左右。

具体实施方式

[0018]
下面结合实施例对本发明作进一步的详细说明:
[0019]
实施例1:
[0020]
一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃,包括玻璃基片和镀膜层,所述镀膜层设于玻璃基片上,所述镀膜层的组成原料仅为硅。
[0021]
为了获得最佳的性能,所述玻璃基片的厚度为6mm,所述镀膜层硅的厚度为130nm。
[0022]
上述一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法,包括如下步骤:
[0023]
(1)选择6mm厚度的玻璃基片,按预定尺寸切割成玻璃片,用清洗机对玻璃片进行清洗;
[0024]
(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10 -3Pa,线速度设置为2m/min;
[0025]
(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜,设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率为370KW,在玻璃基片上溅射一层130nm的硅,即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。
[0026]
实施例2:
[0027]
一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃,包括玻璃基片和镀膜层,所述镀膜层设于玻璃基片上,所述镀膜层的组成原料仅为硅。
[0028]
为了获得最佳的性能,所述玻璃基片的厚度为5mm,所述镀膜层硅的厚度为120nm。
[0029]
上述一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法,包括如下步骤:
[0030]
(1)选择5mm厚度的玻璃基片,按预定尺寸切割成玻璃片,用清洗机对玻璃片进行清洗;
[0031]
(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10 -3Pa,线速度设置为2m/min;
[0032]
(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜,设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率为350KW,在玻璃基片上溅射一层120nm的硅,即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。
[0033]
实施例3:
[0034]
一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃,包括玻璃基片和镀膜层,所述镀膜层设于玻璃基片上,所述镀膜层的组成原料仅为硅。
[0035]
为了获得最佳的性能,所述玻璃基片的厚度为13mm,所述镀膜层硅的厚度为140nm。
[0036]
上述一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法,包括如下步骤:
[0037]
(1)选择13mm厚度的玻璃基片,按预定尺寸切割成玻璃片,用清洗机对玻璃片进行清洗;
[0038]
(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10 -3Pa,线速度设置为2m/min;
[0039]
(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜,设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率为380KW,在玻璃基片上溅射一层140nm的硅,即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。
[0040]
本发明一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃及其制备方法,直接采用扩散系数很低的硅作为镀膜层材料,不仅能够在不影响热反射效果的同时大大降低生产成本,也能够使膜层在钢化炉中进行热处理而不使膜层破坏,且保持了原有热工性能,同时将原片也进行了钢化处理,而且生产出来的镀膜玻璃具有很好的隔热功效,同时也能实现异地化后续深加工,且透光可以做到接近零,玻璃面反射在35左右。
[0041]
应当指出,以上具体实施方式仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范 围,在阅读了本发明之后,本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。

权利要求书

[权利要求 1]
一种离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃,其特征在于包括玻璃基片和镀膜层,所述镀膜层设于玻璃基片上,所述镀膜层的组成原料仅为硅。
[权利要求 2]
根据权利要求1所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基片的厚度为3-15mm。
[权利要求 3]
根据权利要求2所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基片的厚度为6mm。
[权利要求 4]
根据权利要求1所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃,其特征在于:所述镀膜层硅的厚度为120-140nm。
[权利要求 5]
根据权利要求4所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃,其特征在于:所述镀膜层硅的厚度为130nm。
[权利要求 6]
如权利要求1所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于包括如下步骤: (1)选择3-15mm厚度的玻璃基片,按预定尺寸切割成玻璃片,用清洗机对玻璃片进行清洗; (2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10 -3Pa,线速度设置为2m/min; (3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜,设置高真空磁控溅射镀膜设备的功率为350-380KW,在玻璃基片上溅射一层120-140nm的硅,即得所需离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃。
[权利要求 7]
根据权利要求6所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,其特征在于所述步骤(1)中玻璃基片的厚度选择6mm。
[权利要求 8]
根据权利要求6所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,其特征在于所述步骤(3)中高真空磁控溅射镀膜设备的功率为370KW。
[权利要求 9]
根据权利要求6所述的离线可钢化零透高反热反射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,其特征在于所述步骤(3)中在玻璃基片上溅射的硅的厚度为130nm。