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1. (WO2018089180) PLASMA LIGHT UP SUPPRESSION
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Pub. No.: WO/2018/089180 International Application No.: PCT/US2017/057454
Publication Date: 17.05.2018 International Filing Date: 19.10.2017
IPC:
H01L 21/683 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION[US/US]; 4650 Cushing Parkway, M/S CA-1 Fremont, CA 94538, US
Inventors: NI, Pavel; US
Agent: LEE, Michael; US
Priority Data:
15/349,91811.11.2016US
Title (EN) PLASMA LIGHT UP SUPPRESSION
(FR) SUPPRESSION D'ALLUMAGE AU PLASMA
Abstract: front page image
(EN) A method for suppressing arcing in helium distribution channels of an electrostatic chuck in a plasma processing chamber, wherein the electrostatic chuck is connected to a voltage source for providing a chucking voltage and wherein the plasma processing chamber comprises a process gas source, and a plasma power source for transforming the process gas into a plasma is provided. A gas is flowed through the helium distribution channels of an electrostatic chuck to a back side of a wafer. The gas comprises helium and an electronegative gas.
(FR) L'invention concerne un procédé de suppression d'arcs dans des canaux de distribution d'hélium d'un support individuel de tranche électrostatique dans une chambre de traitement au plasma, le support individuel de tranche électrostatique étant connecté à une source de tension pour fournir une tension de serrage et la chambre de traitement au plasma comprenant une source de gaz de traitement, et une alimentation électrique de plasma pour transformer le gaz de traitement en un plasma. Un gaz s'écoule à travers les canaux de distribution d'hélium d'un support individuel de tranche électrostatique vers un côté arrière d'une tranche. Le gaz comprend de l'hélium et un gaz électronégatif.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)