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1. (WO2018088252) PLASMA THERMAL SPRAY DEVICE AND THERMAL SPRAY CONTROL METHOD
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Pub. No.: WO/2018/088252 International Application No.: PCT/JP2017/038958
Publication Date: 17.05.2018 International Filing Date: 27.10.2017
IPC:
H05H 1/42 (2006.01) ,C23C 4/134 (2016.01) ,H05H 1/40 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED[JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
Inventors: KOBAYASHI, Yoshiyuki; JP
HIMORI, Shinji; JP
FURUYA, Naokazu; JP
Agent: ITOH, Tadashige; JP
ITOH, Tadahiko; JP
Priority Data:
2016-22005610.11.2016JP
Title (EN) PLASMA THERMAL SPRAY DEVICE AND THERMAL SPRAY CONTROL METHOD
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION THERMIQUE AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE COMMANDE DE PULVÉRISATION THERMIQUE
(JA) プラズマ溶射装置及び溶射制御方法
Abstract: front page image
(EN) Provided is a plasma thermal spray device comprising: a supply unit wherein a thermal spray material powder is carried by a plasma-generating gas and sprayed from an opening at a leading end portion thereof; a plasma-generating unit using the sprayed plasma-generating gas to generate plasma whereof the axis is common with that of the supply unit; a magnetic field generation unit generating a magnetic field in a generation space for the plasma; and a control unit controlling the magnetic field generation unit thereby controlling the deviation of the plasma being generated.
(FR) L'invention concerne un dispositif de pulvérisation thermique au plasma comprenant : une unité d'alimentation dans laquelle une poudre de matériau de pulvérisation thermique est portée par un gaz de génération de plasma et pulvérisée à partir d'une ouverture au niveau d'une partie d'extrémité avant de celle-ci ; une unité de génération de plasma utilisant le gaz de génération de plasma pulvérisé pour générer un plasma dont l'axe est commun à celui de l'unité d'alimentation ; une unité de génération de champ magnétique générant un champ magnétique dans un espace de génération pour le plasma ; et une unité de commande commandant l'unité de génération de champ magnétique, ce qui permet de commander l'écart du plasma généré.
(JA) 溶射材料の粉末をプラズマ生成ガスにより運び、先端部の開口から噴射する供給部と、噴射された前記プラズマ生成ガスを用いて前記供給部と軸芯が共通するプラズマを生成するプラズマ生成部と、前記プラズマの生成空間に磁場を発生する磁場発生部と、前記磁場発生部を制御し、前記生成するプラズマの偏向を制御する制御部と、を有するプラズマ溶射装置が提供される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)