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1. (WO2018088079) COMPOUND, STARTING MATERIAL FOR THIN FILM FORMATION, THIN FILM PRODUCTION METHOD, AND AMIDINE COMPOUND
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Pub. No.:    WO/2018/088079    International Application No.:    PCT/JP2017/036318
Publication Date: 17.05.2018 International Filing Date: 05.10.2017
IPC:
C07F 15/06 (2006.01), C07C 257/14 (2006.01), C23C 16/18 (2006.01)
Applicants: ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1168554 (JP)
Inventors: YOSHINO, Tomoharu; (JP).
SUGIURA, Nana; (JP).
NISHIDA, Akihiro; (JP).
YAMASHITA, Atsushi; (JP)
Agent: SOGA, Michiharu; (JP).
KAJINAMI, Jun; (JP).
OHYA, Kazuhiro; (JP)
Priority Data:
2016-217749 08.11.2016 JP
Title (EN) COMPOUND, STARTING MATERIAL FOR THIN FILM FORMATION, THIN FILM PRODUCTION METHOD, AND AMIDINE COMPOUND
(FR) COMPOSÉ, MATÉRIAU DE DÉPART POUR FORMATION DE COUCHE MINCE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COUCHE MINCE ET COMPOSÉ D'AMIDINE
(JA) 化合物、薄膜形成用原料、薄膜の製造方法及びアミジン化合物
Abstract: front page image
(EN)Provided is a starting material for thin film formation which comprises a compound represented by general formula (1). (In the formula, R1 denotes a straight- or branched-chain alkyl group having 1-5 carbon atoms, R2 denotes a hydrogen atom or a straight- or branched-chain alkyl group having 1-5 carbon atoms, R3 and R4 each independently denote a straight- or branched-chain alkyl group having 1-5 carbon atoms, A denotes an alkane diyl group having 1-4 carbon atoms, and M denotes copper, iron, nickel, cobalt or manganese.)
(FR)La présente invention concerne un matériau de départ pour la formation de couches minces qui contient un composé représenté par la formule générale (1). (Dans la formule, R 1 représente un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifiée ayant 1 à 5 atomes de carbone, R 2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifiée ayant 1 à 5 atomes de carbone, R 3 et R 4 représentent chacun indépendamment un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifiée ayant 1 à 5 atomes de carbone, A représente un groupe alcane diyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, et M représente le cuivre, le fer, le nickel, le cobalt ou le manganèse.)
(JA)下記一般式(1):(式中、R1は炭素原子数1~5の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、R2は水素又は炭素原子数1~5の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、R3及びR4は各々独立に炭素原子数1~5の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、Aは炭素原子数1~4のアルカンジイル基を表し、Mは銅、鉄、ニッケル、コバルト又はマンガンを表す。)で表される化合物を含有してなる薄膜形成用原料。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)