WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2018086697) VACUUM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF DEPOSITING A LAYER ON A SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/086697 International Application No.: PCT/EP2016/077324
Publication Date: 17.05.2018 International Filing Date: 10.11.2016
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,H01J 37/34 (2006.01) ,C23C 16/44 (2006.01) ,C23C 16/455 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: WHITE, John M.[US/US]; US (US)
SCHNAPPENBERGER, Frank[DE/DE]; DE (US)
BUSCH, John D.[US/US]; US (US)
APPLIED MATERIALS, INC.[US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventors: WHITE, John M.; US
SCHNAPPENBERGER, Frank; DE
BUSCH, John D.; US
Agent: ZIMMERMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Josephspitalstr. 15 80331 München, DE
Priority Data:
Title (EN) VACUUM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF DEPOSITING A LAYER ON A SUBSTRATE
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT SOUS VIDE ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT D'UNE COUCHE SUR UN SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN) According to one aspect of the present disclosure, an apparatus for vacuum deposition on a substrate is provided. The apparatus comprises: a vacuum chamber (110) comprising a first side wall (112) with a first pump opening (113) and a second side wall (114) with a second pump opening (115), a first deposition area (121) configured for housing a first deposition source (120) for depositing a layer on a substrate, a first substrate transportation path (T1) along which a substrate is to be transported which extends in the vacuum chamber (110) past the first deposition area, and a first pumping channel (142) arranged adjacent to the first deposition area (121) and extending from the first pump opening (113) to the second pump opening (115), wherein the first pumping channel (142) comprises one or more lateral openings (145) defining a first gas flow path (P1) from a main volume of the vacuum chamber into the first pumping channel. Further, a deposition module as well as a method of depositing a layer on a substrate are described.
(FR) La présente invention porte, selon un aspect, sur un appareil de dépôt sous vide sur un substrat. L'appareil comprend : une chambre à vide (110) comprenant une première paroi latérale (112) possédant une première ouverture de pompe (113) et une seconde paroi latérale (114) possédant une seconde ouverture de pompe (115), une première zone de dépôt (121) configurée pour loger une première source de dépôt (120) afin de déposer une couche sur un substrat, un premier trajet de transport de substrat (T1) le long duquel un substrat doit être transporté, qui s'étend dans la chambre à vide (110) au-delà de la première zone de dépôt, et un premier canal de pompage (142) agencé de manière adjacente à la première zone de dépôt (121) et s'étendant de la première ouverture de pompe (113) jusqu'à la seconde ouverture de pompe (115), le premier canal de pompage (142) comprenant une ou plusieurs ouvertures latérales (145) définissant un premier trajet d'écoulement de gaz (P1) à partir d'un volume principal de la chambre à vide dans le premier canal de pompage. L'invention concerne en outre un module de dépôt ainsi qu'un procédé de dépôt d'une couche sur un substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)