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1. (WO2018084965) SUBSTRATE LOADING SYSTEM
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Pub. No.: WO/2018/084965 International Application No.: PCT/US2017/053706
Publication Date: 11.05.2018 International Filing Date: 27.09.2017
IPC:
H01L 21/68 (2006.01) ,B29C 43/02 (2006.01) ,B29C 59/00 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
Applicants: MOLECULAR IMPRINTS, INC.[US/US]; 9801 Metric Blvd., Suite 100 Austin, TX 78758, US
Inventors: PATTERSON, Roy; US
AHAMED, Yaseer, A.; US
Agent: CARTER, Michael, D.; US
Priority Data:
62/416,91603.11.2016US
Title (EN) SUBSTRATE LOADING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE CHARGEMENT DE SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN) Methods, systems, and apparatus for a substrate transfer method, including positioning a tray handler device in a first position with i) cutouts of an aperture of the first tray in superimposition with respective pedestals of a pedestal platform and ii) a distal end of the pedestals extending away from a top surface of the first tray; increasing a distance between the top surface of the first tray and a top surface of the pedestal platform to transfer a first substrate from the pedestals to the tabs defined by the aperture of the first tray, while concurrently engaging the second tray handler with the second tray; and increasing a distance between the top surface of the second tray and the bottom surface of a chuck to transfer a second substrate from the chuck to the tabs defined by the second tray.
(FR) L’invention concerne des procédés, des systèmes et un appareil pour un procédé de transfert de substrat, consistant à positionner un dispositif manipulateur de plateau dans une première position avec i) des découpes d’un orifice du premier plateau en superposition avec des piliers respectifs d’une plateforme de piliers et ii) une extrémité distale des piliers s’étendant en s’éloignant d’une surface supérieure du premier plateau ; à accroître une distance entre la surface supérieure du premier plateau et une surface supérieure de la plateforme de piliers pour transférer un premier substrat des piliers vers les languettes définies par l’orifice du premier plateau, tout en mettant simultanément en prise le deuxième manipulateur de plateau avec le deuxième plateau ; et à accroître une distance entre la surface supérieure du deuxième plateau et la surface inférieure d’un mandrin pour transférer un deuxième substrat du mandrin vers les languettes définies par le deuxième plateau.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)