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1. (WO2018083727) EXTREME UV LIGHT GENERATION DEVICE
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Pub. No.: WO/2018/083727 International Application No.: PCT/JP2016/082418
Publication Date: 11.05.2018 International Filing Date: 01.11.2016
IPC:
H05G 2/00 (2006.01)
H ELECTRICITY
05
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
G
X-RAY TECHNIQUE
2
Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
Applicants:
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
Inventors:
柳田 達哉 YANAGIDA Tatsuya; JP
Agent:
保坂 延寿 HOSAKA Nobuhisa; JP
Priority Data:
Title (EN) EXTREME UV LIGHT GENERATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE DANS L'UV EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
Abstract:
(EN) An extreme UV light generation device is provided with: a target supply unit that outputs a target toward a prescribed region; a laser system that outputs a first laser light irradiated on the target, a second laser light irradiated on the target on which the first laser light was irradiated, and a third laser light irradiated on the target on which the second laser light was irradiated; and a control unit that controls the laser system so that the third laser light is irradiated on the target after the ions of the elements constituting the target are eliminated at least from the light path of the third laser light.
(FR) L'invention concerne un dispositif de génération de lumière dans l'UV extrême pourvu : d'une unité d'alimentation cible qui délivre une cible vers une région prescrite ; d'un système laser qui émet une première lumière laser au rayonnement de laquelle est exposée la cible, une deuxième lumière laser au rayonnement de laquelle est exposée la cible qui a été exposée au rayonnement de la première lumière laser, et une troisième lumière laser au rayonnement de laquelle est exposée la cible qui a été exposée au rayonnement de la deuxième lumière laser ; et une unité de commande qui commande le système laser de façon à exposer la cible au rayonnement de la troisième lumière laser après l'élimination des ions des éléments constituant la cible au moins du trajet de lumière de la troisième lumière laser.
(JA) 極端紫外光生成装置は、所定領域に向けてターゲットを出力するターゲット供給部と、ターゲットに照射される第1レーザ光と、第1レーザ光が照射されたターゲットに照射される第2レーザ光と、第2レーザ光が照射されたターゲットに照射される第3レーザ光と、を出力するレーザシステムと、少なくとも第3レーザ光の光路からターゲットを構成する元素のイオンが消失した後に第3レーザ光がターゲットに照射されるように、レーザシステムを制御する制御部と、を備える。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)