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1. (WO2018083582) HEATING METHOD FOR A REACTOR FOR EPITAXIAL DEPOSITION AND REACTOR FOR EPITAXIAL DEPOSITION
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Pub. No.: WO/2018/083582 International Application No.: PCT/IB2017/056720
Publication Date: 11.05.2018 International Filing Date: 30.10.2017
IPC:
C30B 25/10 (2006.01) ,C23C 16/46 (2006.01)
Applicants: LPE S.P.A.[IT/IT]; Via Falzarego, 8 20021 Baranzate (MI), IT
Inventors: OGLIARI, Vincenzo; IT
PRETI, Silvio; IT
PRETI, Franco; IT
Agent: DE ROS, Alberto; IT
DE GREGORI, Antonella; IT
CALOGERO, Ida; IT
Priority Data:
10201600011114304.11.2016IT
Title (EN) HEATING METHOD FOR A REACTOR FOR EPITAXIAL DEPOSITION AND REACTOR FOR EPITAXIAL DEPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE CHAUFFAGE DESTINÉ À UN RÉACTEUR DE DÉPÔT ÉPITAXIAL ET RÉACTEUR DE DÉPÔT ÉPITAXIAL
Abstract: front page image
(EN) The present invention relates to a heating method for a reactor (1) for epitaxial deposition; the reactor (1) comprises a susceptor (2) and an inductor (4); the inductor (4) is adapted to heat the susceptor (2) by electromagnetic induction when it is electrically powered; the inductor (4) comprises a plurality of turns (41-47); during heating of the susceptor (2) from a first temperature to a second temperature, the position of one or more turns (43) of the inductor (4) with respect to the susceptor (2) and to the other turns of the inductor (4) is changed. The turns (43) are actuated by means of an appropriate actuation system (61, 62, 63).
(FR) La présente invention concerne un procédé de chauffage destiné à un réacteur (1) de dépôt épitaxial ; le réacteur (1) comprenant un suscepteur (2) et un inducteur (4) ; l’inducteur (4) étant adapté pour chauffer le suscepteur (2) par induction électromagnétique lorsqu’il est alimenté électriquement ; l’inducteur (4) comprenant une pluralité de spires (41-47) ; durant le chauffage du suscepteur (2) depuis une première température vers une seconde température, la position d’une ou plusieurs spires (43) de l’inducteur (4) par rapport au suscepteur (2) et aux autres spires de l’inducteur (4) étant modifiée. Les spires (43) sont actionnées à l’aide d’un système d’actionnement approprié (61, 62, 63).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Italian (IT)