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1. (WO2018077946) PUMP RESERVOIR, RECTIFICATION SYSTEM AND PROCESS FOR LOW-TEMPERATURE RECTIFICATION
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Pub. No.: WO/2018/077946 International Application No.: PCT/EP2017/077304
Publication Date: 03.05.2018 International Filing Date: 25.10.2017
IPC:
F04B 23/02 (2006.01) ,B01D 3/14 (2006.01)
Applicants: LINDE AKTIENGESELLSCHAFT[DE/DE]; Klosterhofstrasse 1 80331 Munich, DE
Inventors: BAUS, Michael; DE
FLEGIEL, Felix; DE
LAUCHNER, Daniela; DE
MATTEN, Christian; DE
Agent: RICHMOND, Sarah; GB
Priority Data:
16020414.525.10.2016EP
Title (EN) PUMP RESERVOIR, RECTIFICATION SYSTEM AND PROCESS FOR LOW-TEMPERATURE RECTIFICATION
(FR) RÉSERVOIR DE POMPE, SYSTÈME DE RECTIFICATION ET PROCÉDÉ DE RECTIFICATION À BASSE TEMPÉRATURE
Abstract: front page image
(EN) The invention provides a cryogenic pump reservoir (100), for a cryogenic liquid to be fed to a pump (208), with an interior reservoir space (103) extending between a reservoir bottom (101) and a reservoir top (102) and comprising a liquid feeding region (104), which is positioned at a first distance from the reservoir bottom (101) in the direction of the reservoir top (102), and a liquid removing region (105), which is positioned at a second distance from the reservoir bottom (101) in the direction of the reservoir top (102), the second distance being greater than the first distance. It is provided that in the liquid feeding region (104) there is formed a liquid feeding opening (106), that the interior reservoir space (103) is at least partially divided in the liquid feeding region (104) by means of a dividing wall (106), which is arranged in such a way that one of its surfaces (107) is aligned in the direction of the liquid feeding opening (106). A corresponding rectification system (200) and a process for low-temperature rectification are likewise the subject of the present invention.
(FR) L'invention concerne un réservoir (100) de pompe cryogénique destiné à contenir un liquide cryogénique servant à alimenter une pompe (208), le réservoir comportant un espace intérieur (103) de réservoir s'étendant entre une partie inférieure (101) du réservoir et une partie supérieure (102) du réservoir et comprenant une région d'alimentation en liquide (104) positionnée à une première distance de la partie inférieure (101) du réservoir dans la direction de la partie supérieure (102) du réservoir, et une région d'élimination de liquide (105) positionnée à une seconde distance de la partie inférieure (101) du réservoir dans la direction de la partie supérieure (102) du réservoir, la seconde distance étant supérieure à la première distance. La région d'alimentation en liquide (104) comporte une ouverture d'alimentation en liquide (106), et l'espace intérieur (103) de réservoir est divisé au moins partiellement dans la région d'alimentation en liquide (104) au moyen d'une paroi de séparation (106) disposée de sorte que l'une de ses faces (107) soit alignée dans la direction de l'ouverture d'alimentation en liquide (106). La présente invention concerne également un système de rectification correspondant (200) et un procédé de rectification à basse température.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)