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1. (WO2018077873) SYSTEM AND METHOD FOR DETERMINING AND CALIBRATING A POSITION OF A STAGE
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Pub. No.: WO/2018/077873 International Application No.: PCT/EP2017/077155
Publication Date: 03.05.2018 International Filing Date: 24.10.2017
IPC:
H01J 37/20 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
HERMES MICROVISION, INC.; 7F, No.18, Puding Rd., East Dist. Hsinchu City, 300, TW
Inventors: WANG, Youjin; US
LI, Fangfu; US
Agent: PETERS, John; NL
Priority Data:
62/413,55127.10.2016US
62/571,08510.10.2017US
Title (EN) SYSTEM AND METHOD FOR DETERMINING AND CALIBRATING A POSITION OF A STAGE
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION ET D'ÉTALONNAGE D'UNE POSITION D'UN ÉTAGE
Abstract: front page image
(EN) System and method for dynamically determining a position of stage (200) holding a sample and automatically compensating position errors comprising a plurality of interferometer units (31, 32) configured to generate signals based on a position of a stage and further comprising a computing device which can be configured to determine the position of the sample based on the signals, and in response to the determined position, provide instructions associated with the determined position by a control module for controlling of a motor of a stage, or for controlling of a motor to adjust interferometer units emitting charged particle beams, or combination thereof, to compensate position errors of a sample automatically.
(FR) L'invention concerne un système et un procédé permettant de déterminer de manière dynamique la position d'un étage (200) contenant un échantillon et de compenser automatiquement des erreurs de position comprenant une pluralité d'unités d'interféromètre (31, 32) configurées pour générer des signaux sur la base d'une position d'un étage et comprenant en outre un dispositif informatique qui peut être configuré pour déterminer la position de l'échantillon sur la base des signaux, et en réponse à la position déterminée, pour fournir des instructions associées à la position déterminée par un module de commande pour commander un moteur d'un étage, ou pour commander un moteur pour ajuster les unités d'interféromètre émettant des faisceaux de particules chargées, ou une combinaison de ceux-ci, pour compenser automatiquement des erreurs de position d'un échantillon.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)