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1. (WO2018066373) PHENOLIC HYDROXYL GROUP-CONTAINING RESIN AND RESIST MATERIAL
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Pub. No.:    WO/2018/066373    International Application No.:    PCT/JP2017/034063
Publication Date: 12.04.2018 International Filing Date: 21.09.2017
IPC:
C08G 8/30 (2006.01)
Applicants: DIC CORPORATION [JP/JP]; 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520 (JP)
Inventors: IMADA Tomoyuki; (JP).
SATO Yusuke; (JP)
Agent: KONO Michihiro; (JP)
Priority Data:
2016-199057 07.10.2016 JP
Title (EN) PHENOLIC HYDROXYL GROUP-CONTAINING RESIN AND RESIST MATERIAL
(FR) RÉSINE COMPRENANT UN GROUPE HYDROXYLE PHÉNOLIQUE, ET MATÉRIAU DE RÉSERVE
(JA) フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト材料
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the invention is to provide: a phenolic hydroxyl group-containing resin having excellent heat resistance and alkali developability, and also having excellent crack resistance when formed into a thick film; and a photosensitive composition, a curable composition, and a resist material containing said resin. Provided is a phenolic hydroxyl group-containing resin comprising, as repeating units, a structural section (α) represented by structural formula (1) or (2) (wherein R2 and R3 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic ring-containing hydrocarbon group, an alkoxy group, or a halogen atom) and a structural section (β) represented by structural formula (3) (wherein R4 is a hydrogen atom or a C1-7 aliphatic hydrocarbon group, and R5 is a hydrogen atom or a C8-24 aliphatic hydrocarbon group), the phenolic hydroxyl group-containing resin being characterized in that at least one of R2, R3 and R5 present in the resin is a C8-24 aliphatic hydrocarbon group.
(FR)L’invention a pour objet de fournir une résine comprenant un groupe hydroxyle phénolique qui en plus de sa résistance à la chaleur et de son aptitude au développement alcalin, est dotée d’une excellente résistance aux fissures lors de la formation de film épais, et également de fournir une composition photosensible, une composition durcissable et un matériau de réserve qui comprennent cette résine. Plus précisément, la résine comprenant un groupe hydroxyle phénolique est caractéristique en ce qu’elle présente en tant qu’unité de répétition un site structurel (α) représenté par les formules structurelles (1) ou (2) [Dans les formules, R et R représentent chacun indépendamment un groupe hydrocarbure aliphatique ou un groupe hydrocarbure comprenant un cycle aromatique ou un groupe alcoxy ou un atome halogène.], et un site structurel (β) représenté par la formule structurelle (3) (Dans la formule, R représente un groupe hydrocarbure aliphatique de 1 à 7 atomes d’hydrogène ou de carbone. R représente un groupe hydrocarbure aliphatique de 8 à 24 atomes d’hydrogène ou de carbone.), au moins un élément parmi R, R et R présent dans la résine étant un groupe hydrocarbure aliphatique de 8 à 24 atomes de carbone.
(JA)耐熱性やアルカリ現像性に加え、厚膜形成時の耐クラック性にも優れるフェノール性水酸基含有樹脂、これを含有する感光性組成物、硬化性組成物、及びレジスト材料を提供することを目的として、下記構造式(1)又は(2)[式中R、Rはそれぞれ独立に脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子の何れかである。] で表される構造部位(α)と、下記構造式(3)(式中Rは水素原子又は炭素原子数1~7の脂肪族炭化水素基である。Rは水素原子又は炭素原子数8~24の脂肪族炭化水素基である。)で表される構造部位(β)とを繰り返し単位として有し、樹脂中に存在するR、R、Rのうち少なくとも一つが炭素原子数8~24の脂肪族炭化水素基であることを特徴とするフェノール性水酸基含有樹脂を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)