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1. (WO2018065321) METHOD FOR INJECTING CHEMICAL SPECIES IN THE GAS PHASE IN PLASMA-PULSED FORM
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Pub. No.:    WO/2018/065321    International Application No.:    PCT/EP2017/074837
Publication Date: 12.04.2018 International Filing Date: 29.09.2017
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/448 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
Applicants: KOBUS SAS [FR/FR]; 611 rue Aristide Bergès 38330 MONTBONNOT-SAINT-MARTIN (FR)
Inventors: PIALLAT, Fabien; (FR).
NAL, Patrice; (FR).
VITIELLO, Julien; (FR)
Agent: PONTET ALLANO & ASSOCIES; Parc Les Algorithmes, Bâtiment PLATON CS 70003 SAINT-AUBIN 91192 GIF SUR YVETTE cedex (FR)
Priority Data:
1659558 04.10.2016 FR
Title (EN) METHOD FOR INJECTING CHEMICAL SPECIES IN THE GAS PHASE IN PLASMA-PULSED FORM
(FR) PROCEDE D'INJECTION D'ESPECES CHIMIQUES EN PHASE GAZEUSE SOUS FORME PULSEE AVEC PLASMA
Abstract: front page image
(EN)The present invention concerns a method for injecting chemical species in the gas phase into a deposition chamber (30) of a chemical vapour deposition reactor comprising: - A) injecting a first chemical species in the gas phase into the deposition chamber via a first injection channel (40) according to a first pulse sequence; - B) injecting a second chemical species in the gas phase into the deposition chamber via a second injection channel (50) according to a second pulse sequence out of phase with respect to the first pulse sequence; said method being characterised by the generation, sequentially, of a plasma of the first chemical species and/or of the second chemical species during at least one pulse of at least one of the sequences A) and B).
(FR)La présente invention concerne un procédé d'injection d'espèces chimiques en phase gazeuse dans une chambre (30) de dépôt d'un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur, comprenant : -A) l'injection d'une première espèce chimique en phase gazeuse dans la chambre de dépôt par une première voie d'injection (40) selon une première séquence d'impulsions; -B) l'injection d'une seconde espèce chimique en phase gazeuse dans la chambre de dépôt par une seconde voie d'injection (50) selon une seconde séquence d'impulsions déphasée par rapport à la première séquence d'impulsions; ledit procédé étant caractérisé par la génération, de manière séquentielle, d'un plasma de la première espèce chimique et/ou de la seconde espèce chimique pendant au moins une impulsion d'au moins une des séquences A) et B).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)