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1. (WO2018065183) PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND METHOD FOR REDUCING DEFORMATIONS OF COMPONENTS OF THE PROJECTION EXPOSURE SYSTEM CAUSED BY DYNAMIC ACCELERATIONS
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Pub. No.:    WO/2018/065183    International Application No.:    PCT/EP2017/073109
Publication Date: 12.04.2018 International Filing Date: 14.09.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 7/182 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: HEMBACHER, Stefan; (DE).
LOOPSTRA, Erik; (DE).
KUGLER, Jens; (DE).
GEUPPERT, Bernhard; (DE)
Agent: RAUNECKER, Klaus, Peter; (DE)
Priority Data:
10 2016 219 330.9 06.10.2016 DE
Title (DE) PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUR VERRINGERUNG AUS DYNAMISCHEN BESCHLEUNIGUNGEN HERRÜHRENDEN DEFORMATIONEN VON KOMPONENTEN DER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND METHOD FOR REDUCING DEFORMATIONS OF COMPONENTS OF THE PROJECTION EXPOSURE SYSTEM CAUSED BY DYNAMIC ACCELERATIONS
(FR) INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION ET PROCÉDÉ POUR RÉDUIRE LES DÉFORMATIONS DES COMPOSANTS DU DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION DUES AUX ACCÉLÉRATIONS DYNAMIQUES
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie, umfassend - mindestens eine Komponente (22), - eine Abstützvorrichtung mit mindestens einem Stützaktuator (23), welcher derart auf mindestens eine Stützstelle (27) der Komponente (22) einwirkt, dass Deformationen der Komponente (22) verringert werden, wobei die Abstützvorrichtung eine Steuereinheit (28) zur Ansteuerung des mindestens einen Stützaktuators (23) umfasst, wobei die Steuereinheit (28) dazu eingerichtet ist, den Stützaktuator (23) anlässlich einer auf die Komponente (22) einwirkenden dynamischen Beschleunigung anzusteuern. Daneben betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Verringerung von aus dynamischen Beschleunigungen herrührenden Deformationen von Komponenten einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie.
(EN)The invention relates to a projection exposure system (1) for semiconductor lithography, comprising at least one component (22) and a support device having at least one support actuator (23) which acts on at least one support point (27) of the component (22) in such a way that deformations of the component (22) are reduced, wherein the support device has a control unit (28) for actuating the at least one support actuator (23), wherein the control unit (28) is configured to actuate the support actuator (23) during a dynamic acceleration acting on the component (22). The invention also relates to a method for reducing deformations of components of a projection exposure system for semiconductor lithography caused by dynamic accelerations.
(FR)L'invention concerne un dispositif de lithographie par projection (1) pour la lithographie appliquée aux semi-conducteurs, comprenant au moins un composant (22), un dispositif de support pourvu d'au moins un actionneur de support (23) qui agit sur au moins un point d'appui (27) du composant (22) de manière à réduire les déformations du composant (22), le dispositif de support comprenant une unité de commande (28) qui commande ledit au moins un actionneur de support (23), le dispositif de commande (28) étant configuré pour commander l'actionneur de support (23) en réponse à une accélération dynamique agissant sur le composant (22). L'invention concerne en outre un procédé pour réduire les déformations de composants d'une installation de lithographie par projection pour semi-conducteurs qui sont dues à des accélérations dynamiques.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)