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1. (WO2018063921) MEASUREMENT OF OVERLAY AND EDGE PLACEMENT ERRORS WITH AN ELECTRON BEAM COLUMN ARRAY
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Pub. No.:    WO/2018/063921    International Application No.:    PCT/US2017/052816
Publication Date: 05.04.2018 International Filing Date: 21.09.2017
IPC:
H01L 21/66 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: NEIL, Mark; (US).
LASKE, Frank; (DE)
Agent: MCANDREWS, Kevin; (US).
MORRIS, Elizabeth M. N.; (US)
Priority Data:
62/400,229 27.09.2016 US
15/418,946 30.01.2017 US
Title (EN) MEASUREMENT OF OVERLAY AND EDGE PLACEMENT ERRORS WITH AN ELECTRON BEAM COLUMN ARRAY
(FR) MESURE D'ERREURS DE SUPERPOSITION ET DE PLACEMENT DE BORD AVEC UN RÉSEAU DE COLONNES DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Abstract: front page image
(EN)Methods and systems for performing measurements of multiple die with an array of electron beam columns are presented herein. The wafer is scanned in a direction parallel to the die rows disposed on the wafer. The electron beam measurement columns are spatially separated in a column alignment direction. The wafer is scanned in a direction that is oriented at an oblique angle with respect to the column alignment direction such that each electron beam column measures the same row of die features on different die during the same wafer pass. The wafer is oriented with respect to the array of electron beam columns by rotating the wafer, rotating the electron beam columns, or both. In further aspects, each measurement beam is deflected to correct alignment errors between each column and the corresponding die row to be measured and to correct wafer positioning errors reported by the wafer positioning system.
(FR)L'invention concerne des procédés et des systèmes pour effectuer des mesures de multiples puces avec un réseau de colonnes de faisceau d'électrons. La tranche est balayée dans une direction parallèle aux rangées de puces disposées sur la tranche. Les colonnes de mesure de faisceau d'électrons sont spatialement séparées dans une direction d'alignement de colonne. La tranche est balayée dans une direction qui est orientée selon un angle oblique par rapport à la direction d'alignement de colonne de telle sorte que chaque colonne de faisceau d'électrons mesure la même rangée de caractéristiques de puce sur différentes puces pendant le même passage de tranche. La tranche est orientée par rapport au réseau de colonnes de faisceau d'électrons par rotation de la tranche, rotation des colonnes de faisceau d'électrons, ou les deux. Selon d'autres aspects, chaque faisceau de mesure est dévié pour corriger les erreurs d'alignement entre chaque colonne et la ligne de puces correspondante à mesurer et pour corriger les erreurs de positionnement de tranche rapportées par le système de positionnement de tranche.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)